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資料種別 図書

ナノインプリント/ナノ加工技術とオプトテクノロジー : ナノ微細構造体の作製と高機能・光学製品への応用

情報機構

詳細情報

タイトル ナノインプリント/ナノ加工技術とオプトテクノロジー : ナノ微細構造体の作製と高機能・光学製品への応用
著者標目 情報機構
出版地(国名コード) JP
出版地東京
出版社情報機構
出版年月日等 2012.8
大きさ、容量等 355p ; 26cm
注記 文献あり
ISBN 9784905545613
価格 57000円
JP番号 22151707
出版年(W3CDTF) 2012
件名(キーワード) ナノインプリント
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件名(キーワード) 電子光学
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NDLC ND371
NDC(9版) 549.8 : 電子工学
対象利用者 一般
資料の種別 図書
言語(ISO639-2形式) jpn : 日本語

目次
 

  • ナノインプリント/ナノ加工技術とオプトテクノロジー :ナノ微細構造体の作製と高機能・光学製品への応用.
  • 目次
  • 第1章 オプト分野への応用へ向けて~ナノインプリント技術の立場から~
  • 第1章 1. ナノインプリントの概要 4
  • 第1章 1. 1.1 ナノインプリント法の種類(方式と方法) 4
  • 第1章 1. 1.2 ナノインプリント法の成立要件と要素技術 6
  • 第1章 1. 1.3 ナノインプリント法と特徴と課題 7
  • 第1章 2. ナノインプリント法の産業応用にあたって 8
  • 第1章 3. 光学素子へのアプローチ 9
  • 第2章 オプト分野におけるナノ~サブミクロン微細構造体の応用
  • 第2章 1. サブ波長構造にもとづく表面反射防止 17
  • 第2章 1. 1.1 反射防止構造の形成と光学特性 17
  • 第2章 1. 1.2 サブ波長構造のシミュレーション 18
  • 第2章 1. 1.3 トップダウンプロセスにもとづくサブ波長構造の形成 21
  • 第2章 1. 1.4 ナノインプリントプロセスの適用 22
  • 第2章 1. 1.5 ボトムアップ手法にもとづくモールド作製 23
  • 第2章 2. 射出成型にもとづく微細構造形成 24
  • 第2章 3. ナノインプリントプロセスによるその他の微細構造光学素子 25
  • 第3章 微細構造の作製 装置と材料、プロセス技術~ナノインプリント技術とオプト分野への応用~
  • 第3章 第1節 装置メーカーの視点による、ナノインプリント技術とオプト分野への応用 31
  • 第3章 第1節 第1項 東芝機械におけるナノインプリント技術とオプトテクノロジーへの取り組み 31
  • 第3章 第1節 第1項 1. ナノインプリント 32
  • 第3章 第1節 第1項 1. 1.1 ナノインプリント技術 32
  • 第3章 第1節 第1項 1. 1.2 ナノインプリント方式・装置とインプリント結果 34
  • 第3章 第1節 第2項 SCIVAXのインプリント実用化技術と高機能光学製品への応用 50
  • 第3章 第1節 第2項 1. ナノインプリント実用アプリケーションへの取り組み 50
  • 第3章 第1節 第2項 1. 1.1 レンズ曲面への無反射構造形成 51
  • 第3章 第1節 第2項 1. 1.2 LEDの高輝度化 53
  • 第3章 第1節 第2項 1. 1.3 バイオセンサーへの応用 54
  • 第3章 第1節 第2項 1. 1.4 細胞培養プレート 54
  • 第3章 第1節 第2項 2. ナノインプリント装置技術 56
  • 第3章 第1節 第2項 2. 2.1 多面取り大面積ナノインプリントによるコストの低減 56
  • 第3章 第1節 第2項 2. 2.2 押し込み量制御による均厚デバイスの製造 59
  • 第3章 第1節 第2項 2. 2.3 残膜コントロール 60
  • 第3章 第1節 第2項 2. 2.4 SCIVAXのナノインプリント装置 60
  • 第3章 第1節 第2項 3. マクロ欠陥検査技術 62
  • 第3章 第2節 樹脂メーカーの視点による、ナノインプリント技術とオプト分野への応用 65
  • 第3章 第2節 第1項 光学分野への応用へ向けた、ナノインプリント用光硬化樹脂の特徴と最適利用 65
  • 第3章 第2節 第1項 1. 光ナノインプリント用光硬化樹脂 65
  • 第3章 第2節 第1項 1. 1.1 光学分野への適用 66
  • 第3章 第2節 第1項 1. 1.2 レプリカモールド用途 66
  • 第3章 第2節 第1項 1. 1.3 レジスト用途 68
  • 第3章 第2節 第1項 1. 1.4 永久膜用途 69
  • 第3章 第2節 第1項 1. 1.5 各メーカー、研究機関の開発動向 70
  • 第3章 第2節 第1項 1. 1.6 旭硝子のナノインプリント用光硬化樹脂(NIF) 71
  • 第3章 第2節 第2項 ナノインプリント用樹脂材料の特徴と最適利用、光学分野への応用について 76
  • 第3章 第2節 第2項 1. ナノインプリントの特徴 77
  • 第3章 第2節 第2項 2. 熱可塑型ナノインプリント法に適する材料 77
  • 第3章 第2節 第2項 3. 硬化型ナノインプリント法に適する材料 79
  • 第3章 第2節 第2項 3. 3.1 ラジカル硬化系 80
  • 第3章 第2節 第2項 3. 3.2 イオン硬化系 80
  • 第3章 第2節 第2項 4. 光学部材への適用性 82
  • 第3章 第2節 第2項 5. ダイセルの光ナノインプリント材料 83
  • 第3章 第2節 第2項 5. 5.1 光ナノインプリント材料 83
  • 第3章 第3節 金型技術 87
  • 第3章 第3節 第1項 ナノインプリントにおける金型技術 87
  • 第3章 第3節 第1項 1. モールド作製技術 87
  • 第3章 第3節 第1項 1. 1.1 原版モールドの作製 87
  • 第3章 第3節 第1項 1. 1.2 レプリカモールドの材料、作製技術 88
  • 第3章 第3節 第2項 電鋳法によるナノインプリント用微細金型の形成プロセス 89
  • 第3章 第3節 第2項 1. 電鋳とは 89
  • 第3章 第3節 第2項 1. 1.1 概要 89
  • 第3章 第3節 第2項 1. 1.2 製作の流れ 90
  • 第3章 第3節 第2項 1. 1.3 複製工程 90
  • 第3章 第3節 第2項 2. マスター加工 91
  • 第3章 第3節 第2項 2. 2.1 概要 91
  • 第3章 第3節 第2項 2. 2.2 超精密切削加工 91
  • 第3章 第3節 第2項 2. 2.3 リソグラフィー加工 93
  • 第3章 第3節 第2項 2. 2.4 エッチング加工 94
  • 第3章 第3節 第2項 2. 2.5 電子線描画加工 95
  • 第3章 第3節 第2項 2. 2.6 レーザー加工 95
  • 第3章 第3節 第2項 2. 2.7 光造形加工 95
  • 第3章 第3節 第2項 2. 2.8 マイクロミーリング加工 96
  • 第3章 第3節 第2項 2. 2.9 ナノインプリンティング加工 96
  • 第3章 第3節 第2項 2. 2.10 キャスティング加工 97
  • 第3章 第3節 第2項 3 導電化処理 98
  • 第3章 第3節 第2項 3 3.1 概要 98
  • 第3章 第3節 第2項 3 3.2 無電解Ni 98
  • 第3章 第3節 第2項 3 3.3 スパッタリング 98
  • 第3章 第3節 第2項 3 3.4 蒸着 100
  • 第3章 第3節 第3項 ナノインプリントにおけるレプリカモールド技術とロールtoロール量産化について 101
  • 第3章 第3節 第3項 1. 綜研化学のレプリカモールド技術とその特徴 101
  • 第3章 第3節 第3項 2. レプリカフィルムモールドとその大型化 103
  • 第3章 第3節 第3項 3. フィルムモールドを用いたロールtoロール量産化技術 106
  • 第3章 第3節 第4項 UVナノインプリント用モールドの作製技術 110
  • 第3章 第3節 第4項 1. UVナノインプリント用モールドの用途とその作製法 110
  • 第3章 第3節 第4項 2. UVナノインプリント用モールドの試作例 112
  • 第3章 第3節 第4項 3. 石英モールドの離型処理技術 115
  • 第3章 第3節 第5項 干渉リソグラフィによるナノインプリント用モスアイ大型金型の設計と特徴 118
  • 第3章 第3節 第5項 1. 反射防止のメカニズム 119
  • 第3章 第3節 第5項 1. 1.1 多層膜による反射防止 119
  • 第3章 第3節 第5項 1. 1.2 モスアイ構造による反射防止 120
  • 第3章 第3節 第5項 2. 干渉リソグラフィによるモスアイ構造金型 122
  • 第3章 第3節 第5項 2. 2.1 干渉リソグラフィとは 122
  • 第3章 第3節 第5項 2. 2.2 干渉リソグラフィにおけるモスアイ構造の設計 124
  • 第3章 第3節 第6項 高規則性ポーラスアルミナを用いたナノインプリントプロセスにもとづくナノ規則構造の形成と光学デバイスへの応用 128
  • 第3章 第3節 第6項 1. ポーラスアルミナを用いたナノインプリントプロセスにもとづくナノ規則構造の作製 128
  • 第3章 第3節 第6項 2. フォトニック結晶の作製への応用 130
  • 第3章 第3節 第6項 3. 反射防止構造形成への応用 132
  • 第3章 第3節 第6項 4. 反射防止構造賦形レンズ形成への応用 134
  • 第3章 第3節 第7項 ナノインプリントにおける離型技術~その課題と対策~ 139
  • 第3章 第3節 第7項 1. 離型技術 139
  • 第3章 第3節 第7項 1. 1.1 離型時の欠陥発生 139
  • 第3章 第3節 第7項 1. 1.2 シランカップリング剤によるフッ素樹脂膜のコーティング 140
  • 第3章 第3節 第7項 2. 離型の実際(材料、モールド形状の依存性) 142
  • 第3章 第3節 第7項 2. 2.1 樹脂分子量依存性 142
  • 第3章 第3節 第7項 2. 2.2 モールドパターンと離型力 143
  • 第3章 第3節 第7項 2. 2.3 熱ナノインプリント材料と光ナノインプリント材料 145
  • 第3章 第3節 第7項 3. 平面剥離と表面エネルギー 146
  • 第3章 第3節 第7項 3. 3.1 離型と表面エネルギー 146
  • 第3章 第3節 第7項 3. 3.2 装置剛性と表面剥離エネルギー 148
  • 第3章 第3節 第7項 3. 3.3 モールドの表面自由エネルギーと樹脂/モールド間の表面エネルギー 150
  • 第3章 第3節 第7項 3. 3.4 離型方法と樹脂/モールド間の表面エネルギー 151
  • 第3章 第3節 第7項 4. 高アスペクト比パターン離型時の欠陥発生率の統計的取扱い 152
  • 第3章 第4節 ガラスインプリント 157
  • 第3章 第4節 第1項 微細構造光デバイスのためのガラスインプリント法 157
  • 第3章 第4節 第1項 1. ガラスインプリント法の概要 157
  • 第3章 第4節 第1項 1. 1.1 モールド材料とその微細加工 157
  • 第3章 第4節 第1項 1. 1.2 インプリント用ガラスと成形プロセス 159
  • 第3章 第4節 第1項 2. ガラスインプリント法で得られる光学素子 162
  • 第3章 第4節 第2項 ガラス熱インプリントを目的としたカーボン金型の開発 167
  • 第3章 第4節 第2項 1. ガラス状カーボン金型の特性と課題 168
  • 第3章 第4節 第2項 2. カーボンナノファイバー強化ガラス状カーボン金型の各種特性評価 169
  • 第3章 第4節 第2項 2. 2.1 作製方法 169
  • 第3章 第4節 第2項 2. 2.2 機械的特性評価 170
  • 第3章 第4節 第2項 2. 2.3 熱的特性評価 172
  • 第3章 第4節 第2項 2. 2.4 光学ガラスとの濡れ性およびFIB加工性 173
  • 第3章 第4節 第2項 3. GC/VGCF傾斜機能材料の開発と熱インプリント成形 175
  • 第3章 第4節 第3項 ガラスナノインプリントのプロセス技術 178
  • 第3章 第4節 第3項 1. ガラスインプリント法の進展の経緯 178
  • 第3章 第4節 第3項 1. 1.1 ガラスモールド法 178
  • 第3章 第4節 第3項 1. 1.2 ナノインプリント法 180
  • 第3章 第4節 第3項 1. 1.3 ガラスインプリント法 180
  • 第3章 第4節 第3項 2. 構造性複屈折による位相差の発現 181
  • 第3章 第4節 第3項 3. ガラスインプリント法による周期構造形成 182
  • 第3章 第4節 第3項 3. 3.1 微細周期構造を有するモールドの作製プロセス 182
  • 第3章 第4節 第3項 3. 3.2 ガラスインプリント法による成形プロセス 183
  • 第3章 第4節 第3項 3. 3.3 GCモールドを用いた周期構造の成形 184
  • 第3章 第4節 第3項 3. 3.4 大面積周期構造の形成 185
  • 第3章 第4節 第3項 4. 回転検光子法による位相差特性評価 187
  • 第3章 第4節 第3項 4. 4.1 周期500nmの構造体 188
  • 第3章 第4節 第3項 4. 4.2 周期300nmの構造体 190
  • 第3章 第4節 第3項 5. SiCモールドによる周期構造の形成 191
  • 第3章 第4節 第3項 5. 5.1 SiCモールドでのガラス成形 191
  • 第3章 第4節 第3項 5. 5.2 有限要素法による成形シミュレーション 194
  • 第3章 第4節 第3項 5. 5.3 成形シミュレーション結果と成形体の断面形状との比較 194
  • 第3章 第4節 第3項 5. 5.4 成形シミュレーションによるモールド形状と成形性の相関の検討 196
  • 第3章 第4節 第3項 5. 5.5 先端が放物線形状のSiCモールドの作製とガラス成形 197
  • 第3章 第4節 第3項 5. 5.6 SiCモールド作製と高屈折率ガラスへの周期構造形成 200
  • 第3章 第4節 第3項 5. 5.7 ガラスインプリントに適した高屈折率低屈服点ガラス 200
  • 第3章 第4節 第3項 5. 5.8 構造性複屈折波長板の作製と光学特性評価 201
  • 第3章 第4節 第3項 6. 新規モールド材料の探索 205
  • 第4章 微細構造の作製 装置と材料、プロセス技術~様々な微細加工技術とオプト分野への応用~
  • 第4章 第1節 射出成形によるナノ微細加工 213
  • 第4章 第1節 1. マイクロ・ナノ成形の研究動向 213
  • 第4章 第1節 2. マイクロ・ナノスケールの微細表面転写成形の研究動向 214
  • 第4章 第1節 3. マイクロ・ナノスケール成形技術における構造形成と新たな加工技術 216
  • 第4章 第2節 大面積樹脂サブ波長光学デバイス開発 221
  • 第4章 第2節 1. レーザー熱リソグラフィー法による大面積ナノ構造体金型とナノ構造による親水フィルム 222
  • 第4章 第2節 2. 金属微粒子による金型作製 231
  • 第4章 第3節 フェムト秒レーザーによる微細周期構造の形成とその応用 238
  • 第4章 第3節 1. フェムト秒レーザーと物質との相互作用 238
  • 第4章 第3節 2. 複屈折を発現する構造(タイプII)の形成 239
  • 第4章 第3節 3. 局所的な構造性複屈折の形成ダイナミックス 242
  • 第4章 第3節 4. 局所的な構造性複屈折の形成メカニズム 245
  • 第4章 第3節 5. 局所的な構造性複屈折の応用 247
  • 第4章 第4節 自己組織化によるナノ微細構造の形成とその応用 251
  • 第4章 第4節 1. 自己集合(Self-assembly) 251
  • 第4章 第4節 1. 1.1 DNAナノリソグラフィー 251
  • 第4章 第4節 1. 1.2 ブロック共重合体 252
  • 第4章 第4節 1. 1.3 コロイド粒子集積体 254
  • 第4章 第4節 2. 自己組織化(Self-organization) 255
  • 第4章 第4節 2. 2.1 「脱濡れ」を利用した表面パターニング 255
  • 第4章 第4節 2. 2.2 水滴を鋳型とした多孔パターン形成 256
  • 第4章 第5節 溶融微細転写プロセスによる微細加工技術 259
  • 第4章 第5節 1. 溶融微細転写(R)プロセス及び装置 260
  • 第4章 第5節 1. 1.1 塗布と転写 260
  • 第4章 第5節 1. 1.2 最高の流動性と濡れ性及び最低の弾性率 261
  • 第4章 第5節 1. 1.3 高分子量,高強度樹脂による高品質の微細構造 262
  • 第4章 第5節 1. 1.4 高品質微細成形のための要素技術 263
  • 第4章 第5節 1. 1.5 溶融微細転写装置MTM II 130-30 265
  • 第4章 第5節 2. 成形実例 266
  • 第4章 第5節 2. 2.1 線幅数10nm台の高アスペクト比微細構造の成形 266
  • 第4章 第5節 2. 2.2 線幅数100nm台の表面無反射構造の成形 269
  • 第4章 第5節 2. 2.3 線幅μm台の高アスペクト比微細構造の成形 270
  • 第4章 第5節 2. 2.4 nm及びμm台の微細構造を有する立体形状の成形 273
  • 第4章 第5節 2. 2.5 溶融樹脂の低弾性率の利用 274
  • 第4章 第5節 2. 2.6 成形実績のまとめ 276
  • 第4章 第6節 マイクロコンタクトプリンティング技術とその応用について 278
  • 第4章 第6節 1. マイクロコンタクトプリント法によるパターニング 280
  • 第4章 第6節 2. マイクロコンタクトプリント法によるデバイス作製 285
  • 第4章 第6節 3. マイクロコンタクトプリント法の拡張 287
  • 第5章 サブ波長構造とオプトテクノロジー~企業における実用化・商用化へ向けた試み~
  • 第5章 第1節 大面積モスアイフィルムの開発と電子ディスプレイへの応用 291
  • 第5章 第1節 1. モールド(鋳型)の作製 291
  • 第5章 第1節 1. 1.1 ロール状モールドの大面積化 291
  • 第5章 第1節 1. 1.2 モスアイの高機能化 292
  • 第5章 第1節 2. モスアイフィルムの作製 298
  • 第5章 第1節 3. 電子ディスプレイへの適用例 300
  • 第5章 第2節 ナノインプリント技術による光学フィルムの高機能化と応用展開 303
  • 第5章 第2節 1. ナノインプリントとは 303
  • 第5章 第2節 2. シクロオレフィンポリマーとしてのZEONOR(R)(ゼオノア) 305
  • 第5章 第2節 3. 低吸水性 305
  • 第5章 第2節 4. 射出成型性 307
  • 第5章 第2節 5. 光学特性 308
  • 第5章 第2節 6. ゼオノアフィルム(R) 309
  • 第5章 第2節 7. ゼオノアフィルム(R)のナノインプリントへの展開 310
  • 第5章 第2節 8. ゼオノアフィルム(R)のUVナノインプリント用モールドへの展開 312
  • 第5章 第2節 9. インプリントしたゼオノアフィルム(R)の光学用途 314
  • 第5章 第3節 Roll-to-Rollプロセスによるモスアイ型反射防止フィルムの開発 316
  • 第5章 第3節 1. モスアイ型反射防止フィルムの原理と特徴 316
  • 第5章 第3節 2. 大面積ナノインプリント技術開発 318
  • 第5章 第3節 2. 2.1 金型 319
  • 第5章 第3節 2. 2.2 離型性 321
  • 第5章 第3節 3. モスアイ型反射防止フィルム「モスマイトTM」の性能 323
  • 第5章 第4節 ワイヤグリッド偏光フィルムの特徴とその開発について 325
  • 第5章 第4節 1. ワイヤグリッド偏光子とは 325
  • 第5章 第4節 2. 旭化成のワイヤグリッド偏光フィルム(ASAHIKASEI WGFTM) 326
  • 第5章 第4節 3. ナノインプリント技術について 328
  • 第5章 第4節 4. ワイヤグリッド偏光フィルムの特徴 329
  • 第5章 第4節 4. 4.1 広帯域での良好な偏光分離性能 329
  • 第5章 第4節 4. 4.2 非透過偏光の反射&再利用による光利用効率の向上 329
  • 第5章 第4節 4. 4.3 高耐熱性 330
  • 第5章 第4節 4. 4.4 容易な形状加工 330
  • 第5章 第4節 4. 4.5 基材フィルム選択の自由度 330
  • 第5章 第4節 5. 開発における課題 331
  • 第5章 第5節 モスアイ構造を利用した高輝度白色LED用サファイア基板の開発 334
  • 第5章 第5節 1. モスアイ構造による光取り出し効率改善の原理 335
  • 第5章 第5節 2. モスアイ構造の作製方法 337
  • 第5章 第5節 3. モスアイ構造によるLED高出力化 339
  • 第5章 第6節 サブ波長構造を用いた高性能反射防止膜"SWC"の開発とそのカメラ用レンズへの応用 343
  • 第5章 第6節 1. サブ波長構造による反射防止膜の原理 344
  • 第5章 第6節 2. サブ波長構造体の製法 348
  • 第5章 第6節 3. カメラ用レンズへの応用とその効果 350
  • 索引
  • 欧字
  • Anti-Glare 292,296
  • EF24mmF1.4L II USM 344,350
  • GC/VGCF傾斜機能材料 175,176
  • NBOHC欠陥 244
  • OH基 141,242,243
  • Roll to Roll 32,33,39,40,41,42,43,44,75,104
  • Roll-to-Roll法 319,320,324
  • Step&Repeat 32,33,34,39
  • SWC(subwavelength structure coating) 343
  • UV インプリント 32,34,35,37,38,39,40,41,42,58,225,228,312,315,328
  • UV ナノインプリント 37,61,70,83,84,85,97,103,110,111,112,225,303,312,313,314,315,318,319,328
  • あ行
  • アスペクト比 11,21,26,60,94,106,125,127,128,152,153,154,155,157,158,214,215,216,217,225,260,261,262,266,268,269,270,276,277,281,282,284,327
  • アルミナ(Al2O3)微結晶膜 348
  • アルミナ微結晶膜 349,350,351,352,354
  • イオン硬化系 79,80
  • 位相差 25,181,187,188,189,190,200,201,202,203,204,238,239,245,246,247
  • 一括転写 33,34,39,45,69,225
  • ウェーハレベルレンズ 45
  • 永久膜 66,69,71,73
  • エッチング加工 94
  • か行
  • 仮想温度 243
  • ガラス状カーボン 168,169,176
  • 干渉色 124,127,248
  • 干渉リソグラフィ 118,122,123,124,126,127
  • 気相成長炭素繊維 169,170,176
  • キャスティング加工 97
  • キャスティング方式 45,46
  • 高アスペクト比 11,21,26,94,128,152,154,215,260,261,266,270,276,277,282
  • 光学素子 17,20,21,25,27,59,66,68,69,113,128,143,152,158,162,165,178,206,221,230,236,259,273,274,301,355
  • ゴースト 52,134,343,350,354,355
  • 5次元光メモリ 247,248
  • さ行
  • サブ波長構造 343,344,345,348,349,354,355
  • 射出成形 24,33,36,158,159,213,214,215,216,217,219,232,233,234,235,260,262,264,266,277,307
  • 蒸着 66,69,85,98,100,140,142,162,163,252,254,256,312
  • スパッタリング 98,99,292
  • 石英ガラス 37,112,172,176,216,217,238,239,240,242,243,246,247,248
  • た行
  • 断熱金型 218,219
  • 超精密切削加工 91,93
  • 直押し方式 32,33,34,35
  • 低エネルギー電子線投影露光(Low Energy Electron Beam Projection Lithography: LEEPL) 337
  • デジタルゴースト 343
  • 電鋳 22,43,66,67,73,88,89,90,91,92,93,97,98,100,102,129,176,269
  • 導電化処理 90,98
  • な行
  • ナノインプリンティング加工 96
  • ナノインプリント 3,4,5,6,7,8,9,10,11,12,13,17,22,23,24,25,26,27,50,31,32,33,34,36,37,39,40,44,45,48,49,65,50,51,54,56,59,60,61,62,63,65,66,67,68,69,70,71,72,73,85,74,89,87,76,88,77,79,80,83,84,85,96,97,101,109,97,110,102,103,104,117,128,118,110,111,112,114,115,116,125,137,128,139,128,140,129,130,142,131,132,145,134,135,178,157,180,159,162,145,165,147,166,154,180,181,208,208,278,251,221,279,260,213,214,225,298,209,315,301,303,315,303,303,303,303,304,327,318,328,319,309,310,333,312,313,314,328,338,329,338,330,348,339,,339,340,350
  • ナノ加工 3,6,31,45,213,222,228,236,328
  • 熱インプリント 32,34,35,37,57,145,167,168,169,172,173,175,176,214,310,311,312,313,318,328
  • 熱可塑型ナノインプリント技術 76,77,83,85
  • 熱硬化型ナノインプリント 76,79
  • 熱蓄積 238,240,243,244,246
  • は行
  • ハイブリッド方式 45
  • 反射防止 9,10,17,18,21,22,23,24,27,52,68,69,90,118,119,120,121,122,124,125,126,128,132,133,134,135,136,137,162,163,164,165,167,178,180,203,221,228,230,231,232,233,234,235,236,257,291,292,293,294,296,300,316,317,318,319,320,321,323,324,333,343,344,345,348,349,350,351,352,353,354,355
  • 反射防止構造 9,10,17,18,21,22,23,24,27,52,90,118,128,132,133,134,135,136,137,162,163,164,167,232
  • 反射防止膜 343,344,348,351,352,353,354,355
  • 光硬化型ナノインプリント 76,79
  • 光硬化樹脂 65,66,67,68,69,70,71,72,73,74
  • 光造形加工 95
  • 光取り出し効率 68,253,334,335,336,340,341,342
  • 光ナノインプリント 4,5,8,65,66,67,68,69,70,71,72,73,74,83,84,132,145,162,166,291,298,301,304,312
  • フェムト秒レーザーパルス 238,246
  • 複屈折 25,26,162,165,178,181,200,201,203,206,238,239,240242,245,246,247,248
  • プラズマ電子 238,239
  • プラズマ発光 240,242
  • フレア 52,134,343
  • 粉末射出成形 216
  • 偏光 11,17,20,25,40,69,112,131,143,162,178,181,188,189,190,191,216,221,238,239,240,244,246,247,248,259,291,298,299,300,325,326,327,328,329,330,331,332,333
  • 偏光イメージングセンサー 247,248
  • ま行
  • マイクロ・ナノ成形 213,214,218,219
  • マイクロミーリング加工 96
  • マイクロミーリング加工 96
  • マイクロレンズ 9,66,69,85,127,135,136,137,167,168,180,321,322
  • マルチコート 343,345,352,353,354
  • 無電解Ni 98
  • モスアイ 9,17,18,19,20,21,24,43,44,52,53,68,69,118,120,121,122,124,125,126,127,167,291,292,293,294,295,296,297,298,299,300,301,316,317,318,319,320,321,323,324,333,334,335,336,337,338,339,343
  • モスアイ加工サファイア基板 334,336
  • モスアイ構造 9,17,18,19,20,21,24,68,69,118,120,121,122,124,125,126,127,167,291,292,293,294,296,297,299,316,317,318,319,320,321,333,334,335,337,339
  • や行
  • 誘電体多層膜 17,134,343
  • 陽極酸化(AAO) 215
  • 陽極酸化ポーラスアルミナ 23,24,128,129,130,132,134,137,292,319,320,322
  • 溶融微細転写(R)プロセス 260
  • ら行
  • ラジカル硬化系 79,80,81,82,83,84
  • ラマンスペクトル 245
  • 離型剤 71,85,115,280,312,321,322
  • リソグラフィー加工 93
  • レーザー加工 95
  • レジスト 21,22,23,33,60,66,67,68,71,73,84,87,93,94,95,106,110,117,122,146,182,198,222,278,287,291,303,312,337,338,348
  • レプリカモールド 10,58,66,67,70,71,73,74,75,87,88,101,102,104,109,314

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