Photomask and next-generation lithography mask technology 19 : 17-19 April 2012 : Yokohama, Japan : Apr 2012, Yokohama, Japan. (SPIE Proceedings ; 8441)

Photomask and next-generation lithography mask technology 19 : 17-19 April 2012 : Yokohama, Japan : Apr 2012, Yokohama, Japan.

(SPIE Proceedings ; 8441)

国立国会図書館請求記号: M17-13-297
国立国会図書館書誌ID: 023894136

資料種別: 図書

著者: Kato, Kokoro.

出版者: SPIE

出版年: c2012.

資料形態: 紙

ページ数・大きさ等: 1 v. (various pagings) ; 28 cm.

NDC: -

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一般注記：: Papers.

形態の詳細：: ill.

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書誌情報

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紙

資料種別: 図書
ISBN: 9780819491367 (pbk.)
ISSN（シリーズ）: 0277786X
タイトル: Photomask and next-generation lithography mask technology 19 : 17-19 April 2012 : Yokohama, Japan : Apr 2012, Yokohama, Japan.
シリーズタイトル: SPIE Proceedings ; 8441
著者標目: Kato, Kokoro.
出版事項: Bellingham : SPIE
出版年月日等: c2012.
出版年（W3CDTF）: 2012
数量: 1 v. (various pagings)
形態の詳細: ill.
大きさ: 28 cm.
出版地（国名コード）: US
本文の言語コード: eng
件名標目: Masks (Electronics)--Congresses.
Integrated circuits--Masks--Congresses.
X-ray lithography--Congresses.
Microlithography--Congresses.
Optoelectronic devices--Design and construction--Congresses.
Mask technology
Photomask
NDLC: M17
対象利用者: 一般
一般注記: Papers.
書誌注記: Includes bibliographical references and author index.
所蔵機関: 国立国会図書館
請求記号: M17-13-297
連携機関・データベース: 国立国会図書館 : 国立国会図書館蔵書
https://ndlsearch.ndl.go.jp
書誌ID（NDLBibID）: 023894136
http://id.ndl.go.jp/bib/023894136
OCLC番号: 809547842
https://www.worldcat.org/oclc/809547842
目録規則: 英米目録規則
整理区分コード: 215