図書

先端ガラスの産業応用と新しい加工

平尾一之監修

詳細情報

タイトル	先端ガラスの産業応用と新しい加工
著者	平尾一之監修
著者標目	平尾, 一之, 1951-
シリーズ名	[新材料・新素材シリーズ]
出版地（国名コード）	JP
出版地	東京
出版社	シーエムシー出版
出版年月日等	2009.8
大きさ、容量等	334p ; 27cm
ISBN	9784781301525
価格	65000円
JP番号	21654613
NS-MARC番号	115520500
出版年(W3CDTF)	2009
件名（キーワード）	ガラス
	関連キーワードを取得中..
NDLC	PA241
NDC（9版）	573.5 : セラミックス．窯業．珪酸塩化学工業
対象利用者	一般
資料の種別	図書
言語（ISO639-2形式）	jpn : 日本語

先端ガラスの産業応用と新しい加工
目次
序章　ガラスの高機能化と開発動向　平尾一之
序章　1　はじめに　1
序章　2　高機能ナノガラスの研究　5
序章　3　ディスプレイ用ガラス材料開発　9
序章　4　溶融プロセス改善と革新的省エネルギーガラス溶解技術　11
序章　5　おわりに　12
【第1編】　【フラットパネルガラスと開発の現状】
【第1編】　第1章　液晶ディスプレイ用ガラス基板と薄板ガラスの応用　三和晋吉
【第1編】　第1章　1　はじめに　17
【第1編】　第1章　2　液晶ディスプレイに用いられるガラス材料　17
【第1編】　第1章　2　2.1　LCD用ガラス基板　18
【第1編】　第1章　2　2.2　AM-LCD用ガラス基板　19
【第1編】　第1章　2　2.2　2.2.1　無アルカリガラス　19
【第1編】　第1章　2　2.2　2.2.2　耐熱性,低熱収縮　20
【第1編】　第1章　2　2.2　2.2.3　耐薬品性　20
【第1編】　第1章　2　2.2　2.2.4　高光透過率　20
【第1編】　第1章　2　2.2　2.2.5　表面精度　20
【第1編】　第1章　2　2.3　AM-LCD用ガラス基板の技術動向　21
【第1編】　第1章　2　2.3　2.3.1　大面積化　21
【第1編】　第1章　2　2.3　2.3.2　薄肉化,軽量化　22
【第1編】　第1章　2　2.3　2.3.3　グリーンガラス　22
【第1編】　第1章　2　2.3　2.3.4　平坦性,表面品位　23
【第1編】　第1章　2　2.4　AM-OLED用ガラス基板の技術動向　23
【第1編】　第1章　3　超薄板ガラス　24
【第1編】　第1章　3　3.1　フレキシビリティ　26
【第1編】　第1章　3　3.2　ガスバリア性　26
【第1編】　第1章　3　3.3　高光透過率・ガラス特性　27
【第1編】　第1章　4　おわりに　28
【第1編】　第2章　AGCにおけるフラットパネルディスプレイ用ガラス部材の取り組み現状と課題　中尾泰昌
【第1編】　第2章　1　はじめに　29
【第1編】　第2章　2　代表的FPDの構造　30
【第1編】　第2章　2　2.1　LCDの構造　30
【第1編】　第2章　2　2.2　PDPの構造　31
【第1編】　第2章　3　FPD用ガラス関連部材とAGCの取り組み　32
【第1編】　第2章　3　3.1　ガラス基板　32
【第1編】　第2章　3　3.1　3.1.1　LCD用ガラス基板　34
【第1編】　第2章　3　3.1　3.1.2　PDP用ガラス基板　35
【第1編】　第2章　3　3.2　バックライト用ガラス管　38
【第1編】　第2章　3　3.3　PDP用光学フィルター　39
【第1編】　第2章　3　3.4　フリット・ペースト　41
【第1編】　第2章　4　今後　42
【第1編】　第3章　基板ガラスの役割・現状と期待　森田達夫
【第1編】　第3章　1　TFT-LCDにおける基板ガラスの役割　44
【第1編】　第3章　2　TFT基板の製造プロセス　47
【第1編】　第3章　3　結晶育成基板としての期待　50
【第1編】　第3章　3　3.1　背景　50
【第1編】　第3章　3　3.2　新しい加工法　51
【第1編】　第4章　FPD技術と開発動向　倉重光宏
【第1編】　第4章　1　はじめに　53
【第1編】　第4章　2　部材産業から見たFPDの市場動向　54
【第1編】　第4章　3　FPD技術動向　55
【第1編】　第4章　3　3.1　PDP　55
【第1編】　第4章　3　3.2　LCD　56
【第1編】　第4章　3　3.3　有機EL(Organic Light Emitting Diode:OLED)　58
【第1編】　第4章　3　3.4　その他　59
【第1編】　第4章　4　太陽電池　61
【第1編】　第4章　5　おわりに　63
【第2編】　【ガラスの革新的先端加工】
【第2編】　第1章　fsレーザーによる内部加工の特徴　三浦清貴
【第2編】　第1章　1　はじめに　67
【第2編】　第1章　2　フェムト秒レーザー集光照射の特徴　68
【第2編】　第1章　2　2.1　レーザー照射直後からナノ秒領域までの現象　68
【第2編】　第1章　2　2.2　ナノ秒からマイクロ秒領域にかけての現象　71
【第2編】　第1章　3　高密度化による屈折率変化　74
【第2編】　第1章　4　元素分移動による屈折率変化　77
【第2編】　第1章　5　おわりに　78
【第2編】　第2章　液晶空間光変調器とレーザーによるガラスの一括三次元加工　坂倉政明
【第2編】　第2章　1　はじめに　81
【第2編】　第2章　2　ホログラフィック加工の原理　83
【第2編】　第2章　2　2.1　原理の概要　83
【第2編】　第2章　2　2.2　空間光変調器について　86
【第2編】　第2章　2　2.3　位相ホログラムの計算方法　87
【第2編】　第2章　3　実験装置について　89
【第2編】　第2章　4　パターン形成の具体的な方法と事例　90
【第2編】　第2章　4　4.1　ホログラムの作成方法　90
【第2編】　第2章　4　4.2　CGHへの光学素子機能付加について　92
【第2編】　第2章　5　応用例　93
【第2編】　第2章　5　5.1　三次元光メモリ　93
【第2編】　第2章　5　5.2　大面積パターンの描画　95
【第2編】　第2章　5　5.3　他のレーザー加工法との比較　96
【第2編】　第2章　5　5.4　屈折率変化を利用した光導波路と回折光学素子　96
【第2編】　第2章　6　おわりに　98
【第2編】　第3章　ガラス・ホログラムとフェムト秒レーザーによるガラス内部の高速・高精度3次元一括加工　田中修平，鈴木潤一，山地正洋，川島勇人
【第2編】　第3章　1　はじめに　100
【第2編】　第3章　2　フェムト秒レーザーとは　101
【第2編】　第3章　3　フェムト秒レーザー加工　102
【第2編】　第3章　3　3.1　3次元逐次照射加工(従来の加工法)　102
【第2編】　第3章　3　3.1　3.1.1　加工法:フェムト秒レーザーの逐次照射による3次元加工　102
【第2編】　第3章　3　3.1　3.1.2　逐次照射によるデバイスの試作例　103
【第2編】　第3章　3　3.1　3.1.3　逐次照射加工の課題:逐次照射による3次元造形の問題点　104
【第2編】　第3章　3　3.2　3次元一括加工(ホログラム加工)　106
【第2編】　第3章　3　3.2　3.2.1　ガラス・ホログラムによる加工法(一括加工システム)　106
【第2編】　第3章　3　3.2　3.2.2　ガラス・ホログラムによる高精度3次元加工　108
【第2編】　第3章　3　3.2　3.2.3　ガラス・ホログラムによる高速度3次元造形　109
【第2編】　第3章　3　3.2　3.2.4　ガラス・ホログラムによる3次元デバイスの作製例　109
【第2編】　第3章　4　ガラス・ホログラムによるデバイス加工技術の実用化に向けての考察　111
【第2編】　第3章　4　4.1　フェムト秒レーザー加工用材料(ガラスを主に)　111
【第2編】　第3章　4　4.1　4.1.1　溶融ガラス　112
【第2編】　第3章　4　4.1　4.1.2　特殊溶融ガラス　112
【第2編】　第3章　4　4.1　4.1.3　人工ガラス　113
【第2編】　第3章　4　4.2　フェムト秒レーザーの高出力化動向　113
【第2編】　第3章　4　4.3　ホログラムの耐光性および画素数　114
【第2編】　第3章　4　4.4　製造コストについて　114
【第2編】　第3章　4　4.5　主な応用分野　114
【第2編】　第3章　5　おわりに　116
【第2編】　第4章　リソグラフィーとエッチングによる表面微細加工　西井準治
【第2編】　第4章　1　はじめに　119
【第2編】　第4章　2　リソグラフィーとドライエッチング　119
【第2編】　第4章　3　1次元周期構造の形成例　120
【第2編】　第4章　3　3.1　レーザー2光束干渉法とドライエッチングによる回折格子の作製　120
【第2編】　第4章　3　3.2　深溝回折格子の表面保護　122
【第2編】　第4章　3　3.3　可視域で機能する深溝回折格子　123
【第2編】　第4章　3　3.4　深溝回折格子の応用例　124
【第2編】　第4章　4　2次元周期構造(反射防止構造)の形成例　128
【第2編】　第4章　4　4.1　加工方法　129
【第2編】　第4章　4　4.2　表面処理による特性改善　130
【第2編】　第4章　5　まとめ　132
【第2編】　第5章　CO2レーザー照射によるガラス基板の端面加工技術　西川晋司
【第2編】　第5章　1　はじめに　134
【第2編】　第5章　2　CO2レーザー照射による端面加工方法　135
【第2編】　第5章　2　2.1　歪点を超える基板全体の予備加熱を併用した端面加工　136
【第2編】　第5章　2　2.2　歪点を超える基板全体の予備加熱を必要としない端面加工(1)(シングルビーム法)　137
【第2編】　第5章　2　2.3　歪点を超える基板全体の予備加熱を必要としない端面加工(2)(ダブルビーム法)　139
【第2編】　第5章　3　端面加工されたガラス基板の評価　141
【第2編】　第5章　3　3.1　ガラス基板の残留応力　141
【第2編】　第5章　3　3.2　端面強度　143
【第2編】　第5章　3　3.2　3.2.1　ガラス基板の曲げ強度　143
【第2編】　第5章　3　3.2　3.2.2　ガラス基板端面の耐欠け性　144
【第2編】　第5章　4　おわりに　146
【第2編】　第6章　FE-EPMAによる加工ガラスの分析と評価　本間秀和
【第2編】　第6章　1　はじめに　147
【第2編】　第6章　2　FE-EPMAの特徴　148
【第2編】　第6章　2　2.1　空間分解能　148
【第2編】　第6章　2　2.2　WDSスペクトルによる化学状態分析　149
【第2編】　第6章　3　ガラス材料のFE-EPMA分析例　152
【第2編】　第6章　3　3.1　ホウケイ酸ガラスのフェムト秒レーザー加工物(微小部元素組成変化)　152
【第2編】　第6章　3　3.2　テルライト系ガラスのフェムト秒レーザー加工物(化学状態分析)　154
【第2編】　第6章　4　まとめ　156
【第3編】　【ナノガラス応用】
【第3編】　第1章　ガラスインプリント技術　西井準治
【第3編】　第1章　1　はじめに　159
【第3編】　第1章　2　ガラスモールド法の現状　159
【第3編】　第1章　3　1次元周期構造の成形　160
【第3編】　第1章　4　2次元周期構造の成形　164
【第3編】　第1章　5　鋸歯構造の成形　168
【第3編】　第1章　6　まとめ　169
【第3編】　第2章　蛍光ガラス　赤井智子
【第3編】　第2章　1　はじめに　171
【第3編】　第2章　2　蛍光ガラス材料の種類　171
【第3編】　第2章　3　多孔質ガラスを焼成・緻密化させた金属ドープ蛍光ガラス　173
【第3編】　第2章　4　蛍光ガラスの用途　177
【第3編】　第2章　5　おわりに　177
【第3編】　第3章　光デバイス用ナノガラスアーキテクチャー　三浦清貴
【第3編】　第3章　1　はじめに　180
【第3編】　第3章　2　金属ナノ微粒子析出　181
【第3編】　第3章　3　ナノグレーティング形成　183
【第3編】　第3章　4　高密度化による高屈折率化　184
【第3編】　第3章　5　元素分布形成による高屈折率化　188
【第3編】　第3章　6　シリコン(Si)析出　190
【第3編】　第3章　7　液晶空間光位相変調素子(LCOS-SLM)を利用したー括加工　192
【第3編】　第3章　8　おわりに　194
【第3編】　第4章　Fe2O3系ナノガラス薄膜の光ディスクへの応用　山本浩貴
【第3編】　第4章　1　はじめに　196
【第3編】　第4章　2　実験方法　197
【第3編】　第4章　2　2.1　光超解像膜を形成した記録型光ディスクの作製　197
【第3編】　第4章　2　2.2　加熱による分光特性のin-situ測定　198
【第3編】　第4章　2　2.3　超解像膜を形成した光ディスクの記録再生方法　198
【第3編】　第4章　3　結果と考察　198
【第3編】　第4章　3　3.1　Fe2O3系超解像薄膜のナノ構造と分光特性　198
【第3編】　第4章　3　3.2　加熱による分光反射率曲線の変化　200
【第3編】　第4章　3　3.3　光ディスク記録再生試験結果　201
【第3編】　第4章　3　3.4　記録時.再生時の超解像メカニズムの考察　203
【第3編】　第4章　4　まとめ　204
【第3編】　第5章　ナノポアガラス　矢澤哲夫
【第3編】　第5章　1　ナノポアガラスとは　206
【第3編】　第5章　2　ナノポアガラスの作成法　206
【第3編】　第5章　2　2.1　分相法　206
【第3編】　第5章　2　2.1　2.1.1　10～50nmのナノポアを得る方法　209
【第3編】　第5章　2　2.1　2.1.2　5nm以下のナノポアを得る方法　209
【第3編】　第5章　2　2.2　結晶化ガラス法　213
【第3編】　第5章　2　2.3　ゾルゲル法　213
【第3編】　第5章　3　ナノポアガラスの特性　214
【第3編】　第5章　4　ナノポアガラスの応用　215
【第3編】　第5章　4　4.1　ナノポアの利用　216
【第3編】　第5章　4　4.1　4.1.1　ポアサイズの利用　216
【第3編】　第5章　4　4.1　4.1.2　表面改質したナノポアの利用　216
【第3編】　第5章　4　4.1　4.1.3　反応場としての利用　219
【第3編】　第5章　4　4.2　複合材料としての利用　219
【第3編】　第5章　5　おわりに　220
【第3編】　第6章　ナノ構造を有する透明超撥水コーティング膜　忠永清治
【第3編】　第6章　1　はじめに　222
【第3編】　第6章　2　表面の濡れ性　223
【第3編】　第6章　3　ガラスヘの超撥水性付与　225
【第3編】　第6章　4　表面に微細な凹凸を持つ薄膜のガラス基板上への作製　227
【第3編】　第6章　4　4.1　Al2O3系　227
【第3編】　第6章　4　4.2　TiO2系　228
【第3編】　第6章　5　微細凹凸構造を有する薄膜の撥水処理による超撥水膜の作製　228
【第3編】　第6章　6　おわりに　230
【第3編】　第7章　ポリシラザンから室温で作製される新しいナノガラス・ナノハイブリッド薄膜　幸塚広光，山野晃裕
【第3編】　第7章　1　はじめに　232
【第3編】　第7章　2　ポリシラザンから室温で作製されるシリカ薄膜　233
【第3編】　第7章　2　2.1　PHPS薄膜のシリカ薄膜への変化　233
【第3編】　第7章　2　2.2　塩基性蒸気への曝露によるPHPS薄膜のシリカ薄膜への変化とシリ力薄膜の性質　235
【第3編】　第7章　3　ゾルーゲル法によるよりも高い硬度と化学的耐久性をもつ有機・無機ハイブリッド薄膜の作製　238
【第3編】　第7章　4　ポリシラザンの疎水性を利用したハイブリッド薄膜の新しい展開　241
【第3編】　第8章　ゾルーゲル法による光機能ナノガラス　野上正行，早川知克
【第3編】　第8章　1　はじめに　246
【第3編】　第8章　2　ナノ粒子ドープガラスの光特性　246
【第3編】　第8章　3　ナノ粒子―希土類イオン共ドープガラス　249
【第3編】　第8章　4　希土類イオンドープガラスの光非線形特性　252
【第3編】　第9章　結晶化ガラスを用いた光増幅　大石泰丈，鈴木健伸
【第3編】　第9章　1　はじめに　256
【第3編】　第9章　2　高効率Ni2+のホスト結晶の検討　257
【第3編】　第9章　3　Ni2+添加ZnO-AI2O3-SiO2透明結晶化ガラスの光学特性　258
【第3編】　第9章　4　Ni2+添加Li2O-Ga2O3-SiO2透明結晶化ガラスの光学特性　258
【第3編】　第9章　5　Ni2+添加Li2O-Ga2O3-SiO2系ガラスの構造と熱特性　261
【第3編】　第9章　6　まとめ　264
【第3編】　第10章　原子加熱法によるガラスの結晶化と機能化　小松高行，本間剛
【第3編】　第10章　1　はじめに　266
【第3編】　第10章　2　原子加熱法によるガラスの結晶化と特徴　267
【第3編】　第10章　3　非線形光学結晶のパターニング　268
【第3編】　第10章　3　3.1　曲線および分岐構造を有する結晶ラインパターニング　268
【第3編】　第10章　3　3.2　強誘電体LiNbO3結晶ラインパターニング　270
【第3編】　第10章　3　3.3　強弾性体β'-Gd2(MoO4)3結晶ラインパターニング　272
【第3編】　第10章　4　フッ化物結晶のパターニング　274
【第3編】　第10章　5　リチウムイオン二次電池用結晶のパターニング　275
【第3編】　第10章　6　原子加熱法と化学エッチングの組合せによる微細加工　276
【第3編】　第10章　7　おわりに　277
【第3編】　第11章　白色LED用結晶化ガラス　田部勢津久，藤田俊輔，中西貴之
【第3編】　第11章　1　はじめに　279
【第3編】　第11章　2　白色LEDの現状と課題　279
【第3編】　第11章　3　YAG:Ce3+結晶化ガラス蛍光体　280
【第3編】　第11章　3　3.1　YAG結晶化ガラスの創製　281
【第3編】　第11章　3　3.2　光学特性　282
【第3編】　第11章　3　3.3　信頼性の評価　285
【第3編】　第11章　3　3.4　物理特性　286
【第3編】　第11章　4　高演色性白色LED蛍光体　287
【第3編】　第11章　4　4.1　2結晶析出結晶化ガラスの創製　287
【第3編】　第11章　4　4.2　光学特性　289
【第3編】　第11章　5　まとめ　291
【第3編】　第12章　ファイバヒューズ　轟　眞市
【第3編】　第12章　1　はじめに　293
【第3編】　第12章　2　なぜ損傷が発生するのか?　293
【第3編】　第12章　3　なぜ空孔列が生成するのか?　295
【第3編】　第12章　4　なぜ空孔が弾丸の形になるのか?　298
【第3編】　第12章　5　おわりに　299
【第3編】　第13章　シリカガラスの新展開　梶原浩一
【第3編】　第13章　1　はじめに　301
【第3編】　第13章　2　加工法の進展　301
【第3編】　第13章　2　2.1　レーザーアブレーション法　301
【第3編】　第13章　2　2.2　フェムト秒レーザー光による加工　302
【第3編】　第13章　2　2.3　熱インプリント法　304
【第3編】　第13章　3　合成法の進展　304
【第3編】　第13章　3　3.1　粉末焼結法　304
【第3編】　第13章　3　3.2　フュームドシリカ焼結法　305
【第3編】　第13章　3　3.3　ゾルーゲル法　306
【第3編】　第13章　4　基礎物性・解析法　307
【第3編】　第13章　4　4.1　シリカガラスの網目構造の乱雑さ　307
【第3編】　第13章　4　4.2　ガラス表面における構造緩和　309
【第3編】　第13章　5　応用　309
【第3編】　第13章　5　5.1　エキシマレーザーリソグラフィー用光学材料　309
【第3編】　第13章　5　5.2　深紫外光ファイバー　311
【第3編】　第14章　磁気光学ガラス　田中勝久
【第3編】　第14章　1　磁気光学効果　314
【第3編】　第14章　1　1.1　ファラデー効果　314
【第3編】　第14章　1　1.2　磁気カー効果　316
【第3編】　第14章　2　磁気光学材料とデバイス　317
【第3編】　第14章　3　ガラスのファラデー効果　319
【第3編】　第14章　3　3.1　希土類含有ガラス　319
【第3編】　第14章　3　3.2　Fe2+含有ガラス　321
【第3編】　第14章　3　3.3　反磁性ガラス　322
【第3編】　第14章　3　3.4　複合材料　323
【第3編】　第14章　4　アモルファス合金の磁気カー効果と光磁気記録　323
【第3編】　終章　ナノガラスの将来展望　寺井良平
【第3編】　終章　1　アメリカ発のナノテクノロジー　325
【第3編】　終章　2　ナノガラス技術プロジェクトの開始　325
【第3編】　終章　3　「ナノガラス技術プロジェクト」の成果　327
【第3編】　終章　4　デバイス用高機能化ナノガラスプロジェクト(「フォーカス21」)　328
【第3編】　終章　5　革新的部材産業創出プログラム　329
【第3編】　終章　6　ナノガラス関連の研究成果の特徴　329
【第3編】　終章　7　フォトニクスネットワークの構築―量子コンピューター(光コンピューター)ヘー　331
【第3編】　終章　8　「再生可能エネルギー」時代への布石―「スマートグリッド」にも光回路ネットワークを―　333

(▼全て表示)(▲一部を表示)

見る・借りる

国立国会図書館オンライン
請求記号：PA241-J12

関西　総合閲覧室　

XC-N09-14310

東京　本館書庫

-

国立国会図書館の検索・申込システムです。
登録IDでログインすると、複写サービス等を利用できます。
（登録について）
東京都立中央図書館

先端ガラスの産業応用と新しい加工

詳細情報

目次

見る・借りる

入手する

ブックマーク

書評

この資料の書評

書評サイト

検索結果を出力