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高真空プロセス用の高密度プラズマパルスの発生とそれを用いた表面過程の解明

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高真空プロセス用の高密度プラズマパルスの発生とそれを用いた表面過程の解明

国立国会図書館請求記号
Y151-H06452225
国立国会図書館書誌ID
000006996122
資料種別
図書
著者
尾笹, 一成, 理化学研究所
出版者
-
出版年
1994-1995
資料形態
ページ数・大きさ等
-
NDC
-
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資料に関する注記

一般注記:

文部省科学研究費補助金研究成果報告書

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書誌情報

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資料種別
図書
タイトルよみ
コウシンクウ プロセスヨウ ノ コウミツド プラズマパルス ノ ハッセイ ト ソレ オ モチイタ ヒョウメン カテイ ノ カイメイ
著者・編者
尾笹, 一成, 理化学研究所
著者標目
尾笹, 一成 オザサ, カズナリ
出版年月日等
1994-1995
出版年(W3CDTF)
1994
数量
その他のタイトル
研究種目 一般研究(B)
件名標目
プラズマ プラズマ
ガスパルスプラズマ ガスパルスプラズマ
プラズマパルス プラズマパルス
水素プラズマ スイソプラズマ
ヘリウムプラズマ ヘリウムプラズマ
イオン電流 イオンデンリユウ
発光特性 ハツコウトクセイ
電子温度 デンシオンド