規格・テクニカルリポート類

Plasma source ion implantation of ammonia into electroplated chromium LA-UR-95-341 DE95 006275 CONF-9502014

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Plasma source ion implantation of ammonia into electroplated chromium

LA-UR-95-341 DE95 006275 CONF-9502014

国立国会図書館請求記号
LS-DE95/006275
国立国会図書館書誌ID
000005518030
資料種別
規格・テクニカルリポート類
著者
Scheuer, J. Tほか
出版者
-
出版年
1995
資料形態
マイクロ
ページ数・大きさ等
7 p. (1 microfiche)
NDC
-
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書誌情報

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マイクロ

資料種別
規格・テクニカルリポート類
著者・編者
Scheuer, J. T
Walter, K. C
Rej, D. J
Nastasi, M
Blanchard, J. P
出版年月日等
1995
出版年(W3CDTF)
1995
数量
7 p. (1 microfiche)
資料種別(注記)
[microform]
リポート番号
テクニカルリポート番号 : LA-UR-95-341
テクニカルリポート番号 : DE95 006275
テクニカルリポート番号 : CONF-9502014
所蔵機関
国立国会図書館
請求記号
LS-DE95/006275