Development of a polysilicon process bases on chemical vapor deposition DOE/JPL/955533-80-4 DOE/JPL/955533-79/1

Development of a polysilicon process bases on chemical vapor deposition

DOE/JPL/955533-80-4 DOE/JPL/955533-79/1

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資料種別: 規格・テクニカルリポート類
タイトル: Development of a polysilicon process bases on chemical vapor deposition
著者・編者: Sharp, K
出版年月日等: 1980
出版年（W3CDTF）: 1980
数量: 52 p. (1 microfiche)
資料種別（注記）: [microform]
リポート番号: テクニカルリポート番号 : DOE/JPL/955533-80-4
テクニカルリポート番号 : DOE/JPL/955533-79/1
所蔵機関: 国立国会図書館
請求記号: LS-DOE/JPL/955533-80-4
連携機関・データベース: 国立国会図書館 : 国立国会図書館蔵書
https://ndlsearch.ndl.go.jp
書誌ID（NDLBibID）: 000005516561
http://id.ndl.go.jp/bib/000005516561
整理区分コード: 291