サイトメニューここからこのページの先頭です

ショートカットキーの説明を開始します。画面遷移や機能実行は、説明にあるショートカットキーを同時に押した後、Enterキーを押してください。ショートカットキーの説明を聞くには、Alt＋0。トップ画面の表示には、Alt＋1。ログインを行うには、Alt＋2。簡易検索画面の表示には、Alt＋3。詳細検索画面の表示には、Alt＋4。障害者向け資料検索画面の表示には、Alt＋5。検索結果の並び替えを行うには、Alt＋6。国立国会図書館ホームページの表示には、Alt＋7。検索結果の絞り込みを行うには、Alt＋8。以上でショートカットキーの説明を終わります。

ナビゲーションここから

ナビゲーションここまで

本文ここから

資料種別 図書

微細加工技術 基礎編

高分子学会 編

詳細情報

タイトル 微細加工技術
著者 高分子学会 編
著者標目 高分子学会
シリーズ名 ポリマーフロンティア21シリーズ ; 13
出版地（国名コード） JP
出版地東京
出版社エヌ・ティー・エス
出版年月日等 2002.9
大きさ、容量等 192, 5p ; 27cm
ISBN 4860430069
価格 24000円
JP番号 20332150
巻次 基礎編
出版年(W3CDTF) 2002
件名（キーワード） 半導体
件名（キーワード） オプトエレクトロニクス
NDLC ND371
NDC（9版） 549.8 : 電子工学
対象利用者 一般
資料の種別 図書
言語（ISO639-2形式） jpn : 日本語

目次
 

  • 微細加工技術 　 基礎編 　 高分子学会　編
  • 1　近接場光学を用いたナノフォトニクスとそのための微細加工　東京工業大学大学院総合理工学研究科　教授　大津元一
  • 1　1.　はじめに　3
  • 1　2.　21世紀の社会の要求　3
  • 1　3.　ナノフォトニクスよる限界打破　5
  • 1　3.　3.1　近接場光の発生と使用　7
  • 1　3.　3.2　微細加工　10
  • 1　4.　結論と今後の展望　33
  • 2　フェムト秒レーザーによる超微細光造形法　大阪大学大学院工学研究科応用物理学専攻　教授阪大フロンティア研究機構　機構長理化学研究所　主任研究員　河田聡
  • 2　1.　3次元超微細光造形　41
  • 2　1.　1.1　ナノの世界　41
  • 2　1.　1.2　非線形光学によるナノフォトニクス　42
  • 2　1.　1.3　フェムト秒レーザー　44
  • 2　1.　1.4　光重合性樹脂　46
  • 2　1.　1.5　3次元ナノ微細加工　46
  • 2　1.　1.6　3次元機能性構造　50
  • 2　1.　1.7　分解能の評価　53
  • 2　1.　1.8　1光子過程によるファイバ成長　54
  • 2　1.　1.9　3次元フォトニック結晶　59
  • 2　2.　3次元光記録　60
  • 2　3.　SHG(第2高調波)像　66
  • 2　4.　CARS(コヒーレントアンチストークスラマン散乱)　68
  • 2　5.　近接場光学顕微鏡　70
  • 3　自己組織化的手法による微細加工　(独)通信総合研究所関西先端研究センターナノ機構グループ　グループリーダー　益子信郎
  • 3　1.　はじめに　77
  • 3　2.　デンドリマー構造を利用した発光材料の研究　80
  • 3　2.　2.1　デンドリマー構造と発光特性　80
  • 3　2.　2.2　共振器のいらないデンドリマー分散型固体レーザーの発振　83
  • 3　3.　デンドリマーを用いた単電子トンネル素子の研究　86
  • 3　3.　3.1　単電子トンネル素子のねらい　86
  • 3　3.　3.2　膜構造による単電子トンネル素子の作成　88
  • 3　3.　3.3　分子のサイズの算出　90
  • 3　3.　3.4　単電子トンネル素子の光制御　92
  • 3　4.　基板上での分子の組み立て　93
  • 3　4.　4.1　組み立て方法　93
  • 3　4.　4.2　組み立てのためのポルフィリン分子　94
  • 3　4.　4.3　選択的分子会合による構造の作成　95
  • 3　5.　まとめ　98
  • 4　マイクロリキッドプロセスを用いたデバイスの創成と将来展望　セイコーエプソン(株)テクノロジープラットフォーム研究所　理事・所長　下田達也
  • 4　1.　はじめに　101
  • 4　2.　薄膜電子デバイスとマイクロリキッドプロセス　101
  • 4　2.　2.1　薄膜電子デバイス産業の無駄　101
  • 4　2.　2.2　マイクロリキッドプロセスとは何か　103
  • 4　2.　2.3　マイクロリキッドプロセスによる電子デバイスの作成とその進化　105
  • 4　3.　インクジェット技術　106
  • 4　3.　3.1　インクジェットの現象　106
  • 4　3.　3.2　液滴の動作を決定するエネルギー　109
  • 4　4.　インクジェット法によるカラーフィルタの作成　111
  • 4　4.　4.1　テクノロジー・マッチング　111
  • 4　4.　4.2　インクジェットの精度　113
  • 4　4.　4.3　撥水と親水　114
  • 4　5.　インクジェット法による有機ELディスプレイの作成　121
  • 4　5.　5.1　有機ELディスプレイの作成　121
  • 4　5.　5.2　成膜プロセス　123
  • 4　5.　5.3　成膜の微細技術　126
  • 4　6.　インクジェットで有機トランジスタを描く　130
  • 4　6.　6.1　有機TFT(TFT:Thin Film Transistor)の取り柄　130
  • 4　6.　6.2　有機TFT作成技術　133
  • 4　7.　マイクロリキッドプロセスの今後の展望　139
  • 5　連続型EUVリソグラフィ開発と樹脂感光性評価　(株)豊田中央研究所有機材料研究室　主任研究員　東博純
  • 5　1.　はじめに　145
  • 5　2.　光源の波長と応用　146
  • 5　3.　EUVリソグラフィ試験　147
  • 5　4.　各種におけるEUV光源タイプ　152
  • 5　4.　4.1　キャピラリー放電　152
  • 5　4.　4.2　レーザープラズマ　153
  • 5　5.　レーザープラズマEUV光源装置　156
  • 5　6.　EUV波長と露光　157
  • 5　7.　溶解速度の測定方法　162
  • 5　8.　レーザープラズマ光源の課題(モニタリング)　165
  • 5　9.　レーザープラズマ光源の課題(デブリ対策)　167
  • 5　10.　まとめ　169
  • 6　新しい露光方法に対応したレジスト材料の開発　東京応化工業(株)開発本部先端材料開発一部　技術主任　緒方寿幸
  • 6　1.　はじめに　173
  • 6　2.　露光波長でのレジスト材料　177
  • 6　2.　2.1　ArFレジスト材料　177
  • 6　2.　2.2　F2レジスト材料　183
  • 6　2.　2.3　EUVレジスト材料　189
  • 6　3.　まとめ　191

本文ここまで

Copyright © 2012 National Diet Library. All Rights Reserved.

フッター　ここまで