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資料種別 図書

微細加工技術 基礎編

高分子学会 編

詳細情報

タイトル 微細加工技術
著者 高分子学会 編
著者標目 高分子学会
シリーズ名 ポリマーフロンティア21シリーズ ; 13
出版地(国名コード) JP
出版地東京
出版社エヌ・ティー・エス
出版年月日等 2002.9
大きさ、容量等 192, 5p ; 27cm
ISBN 4860430069
価格 24000円
JP番号 20332150
巻次 基礎編
出版年(W3CDTF) 2002
件名(キーワード) 半導体
件名(キーワード) オプトエレクトロニクス
NDLC ND371
NDC(9版) 549.8 : 電子工学
対象利用者 一般
資料の種別 図書
言語(ISO639-2形式) jpn : 日本語

目次
 

  • 微細加工技術   基礎編   高分子学会 編
  • 1 近接場光学を用いたナノフォトニクスとそのための微細加工 東京工業大学大学院総合理工学研究科 教授 大津元一
  • 1 1. はじめに 3
  • 1 2. 21世紀の社会の要求 3
  • 1 3. ナノフォトニクスよる限界打破 5
  • 1 3. 3.1 近接場光の発生と使用 7
  • 1 3. 3.2 微細加工 10
  • 1 4. 結論と今後の展望 33
  • 2 フェムト秒レーザーによる超微細光造形法 大阪大学大学院工学研究科応用物理学専攻 教授阪大フロンティア研究機構 機構長理化学研究所 主任研究員 河田聡
  • 2 1. 3次元超微細光造形 41
  • 2 1. 1.1 ナノの世界 41
  • 2 1. 1.2 非線形光学によるナノフォトニクス 42
  • 2 1. 1.3 フェムト秒レーザー 44
  • 2 1. 1.4 光重合性樹脂 46
  • 2 1. 1.5 3次元ナノ微細加工 46
  • 2 1. 1.6 3次元機能性構造 50
  • 2 1. 1.7 分解能の評価 53
  • 2 1. 1.8 1光子過程によるファイバ成長 54
  • 2 1. 1.9 3次元フォトニック結晶 59
  • 2 2. 3次元光記録 60
  • 2 3. SHG(第2高調波)像 66
  • 2 4. CARS(コヒーレントアンチストークスラマン散乱) 68
  • 2 5. 近接場光学顕微鏡 70
  • 3 自己組織化的手法による微細加工 (独)通信総合研究所関西先端研究センターナノ機構グループ グループリーダー 益子信郎
  • 3 1. はじめに 77
  • 3 2. デンドリマー構造を利用した発光材料の研究 80
  • 3 2. 2.1 デンドリマー構造と発光特性 80
  • 3 2. 2.2 共振器のいらないデンドリマー分散型固体レーザーの発振 83
  • 3 3. デンドリマーを用いた単電子トンネル素子の研究 86
  • 3 3. 3.1 単電子トンネル素子のねらい 86
  • 3 3. 3.2 膜構造による単電子トンネル素子の作成 88
  • 3 3. 3.3 分子のサイズの算出 90
  • 3 3. 3.4 単電子トンネル素子の光制御 92
  • 3 4. 基板上での分子の組み立て 93
  • 3 4. 4.1 組み立て方法 93
  • 3 4. 4.2 組み立てのためのポルフィリン分子 94
  • 3 4. 4.3 選択的分子会合による構造の作成 95
  • 3 5. まとめ 98
  • 4 マイクロリキッドプロセスを用いたデバイスの創成と将来展望 セイコーエプソン(株)テクノロジープラットフォーム研究所 理事・所長 下田達也
  • 4 1. はじめに 101
  • 4 2. 薄膜電子デバイスとマイクロリキッドプロセス 101
  • 4 2. 2.1 薄膜電子デバイス産業の無駄 101
  • 4 2. 2.2 マイクロリキッドプロセスとは何か 103
  • 4 2. 2.3 マイクロリキッドプロセスによる電子デバイスの作成とその進化 105
  • 4 3. インクジェット技術 106
  • 4 3. 3.1 インクジェットの現象 106
  • 4 3. 3.2 液滴の動作を決定するエネルギー 109
  • 4 4. インクジェット法によるカラーフィルタの作成 111
  • 4 4. 4.1 テクノロジー・マッチング 111
  • 4 4. 4.2 インクジェットの精度 113
  • 4 4. 4.3 撥水と親水 114
  • 4 5. インクジェット法による有機ELディスプレイの作成 121
  • 4 5. 5.1 有機ELディスプレイの作成 121
  • 4 5. 5.2 成膜プロセス 123
  • 4 5. 5.3 成膜の微細技術 126
  • 4 6. インクジェットで有機トランジスタを描く 130
  • 4 6. 6.1 有機TFT(TFT:Thin Film Transistor)の取り柄 130
  • 4 6. 6.2 有機TFT作成技術 133
  • 4 7. マイクロリキッドプロセスの今後の展望 139
  • 5 連続型EUVリソグラフィ開発と樹脂感光性評価 (株)豊田中央研究所有機材料研究室 主任研究員 東博純
  • 5 1. はじめに 145
  • 5 2. 光源の波長と応用 146
  • 5 3. EUVリソグラフィ試験 147
  • 5 4. 各種におけるEUV光源タイプ 152
  • 5 4. 4.1 キャピラリー放電 152
  • 5 4. 4.2 レーザープラズマ 153
  • 5 5. レーザープラズマEUV光源装置 156
  • 5 6. EUV波長と露光 157
  • 5 7. 溶解速度の測定方法 162
  • 5 8. レーザープラズマ光源の課題(モニタリング) 165
  • 5 9. レーザープラズマ光源の課題(デブリ対策) 167
  • 5 10. まとめ 169
  • 6 新しい露光方法に対応したレジスト材料の開発 東京応化工業(株)開発本部先端材料開発一部 技術主任 緒方寿幸
  • 6 1. はじめに 173
  • 6 2. 露光波長でのレジスト材料 177
  • 6 2. 2.1 ArFレジスト材料 177
  • 6 2. 2.2 F2レジスト材料 183
  • 6 2. 2.3 EUVレジスト材料 189
  • 6 3. まとめ 191

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