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応用物理ハンドブック

応用物理学会編

詳細情報

タイトル	応用物理ハンドブック
著者	応用物理学会編
著者標目	応用物理学会
出版地（国名コード）	JP
出版地	東京
出版社	丸善
出版年月日等	1990.3
大きさ、容量等	834p ; 27cm
注記	各章末: 文献
ISBN	4621034316
価格	28840円 (税込)
JP番号	90030759
出版年(W3CDTF)	1990
件名（キーワード）	応用物理学
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NDLC	MC2
NDLC	MC21
NDC(8版)	501.2
対象利用者	一般
資料の種別	図書
言語（ISO639-2形式）	jpn : 日本語

応用物理ハンドブック
第1章　光学技術　本田捷夫，山口一郎，西田信夫，畑田豊彦
第1章　1．1　光学基礎　鶴田匡夫　3
第1章　1．1．1　幾何光学　3
第1章　1．1．2　物理光学　3
第1章　1．2　光学材料，光学素子および結像器械　5
第1章　1．2．1　光学材料　泉谷徹郎　5
第1章　1．2．2　光学素子　小島忠　7
第1章　1．2．3　動的光制御素子　西田信夫　10
第1章　1．2．4　結像器械　山本公明　13
第1章　1．3　分光素子，分光器および偏光解析　14
第1章　1．3．1　分光素子　波岡武　14
第1章　1．3．2　分光器　南茂夫　16
第1章　1．3．3　偏光解析法　横田英嗣　20
第1章　1．4　光記録材料　22
第1章　1．4．1　銀塩感光材料　三位信夫　22
第1章　1．4．2　非銀塩感光材料　小門宏　25
第1章　1．4．3　光メモリ材料　三橋慶喜　26
第1章　1．5　光応用計測，光演算技術　28
第1章　1．5．1　光の直進性を利用した計測　山口一郎　28
第1章　1．5．2　干渉・光ビート応用計測　山口一郎　30
第1章　1．5．3　回折・散乱を応用した計測　山口一郎　34
第1章　1．5．4　光演算，フィルタリング，光双安定，位相共役，光スイッチ　一岡芳樹　36
第1章　1．6　画像技術　43
第1章　1．6．1　撮像デバイス　木内雄二　43
第1章　1．6．2　表示素子　小林駿介　46
第1章　1．6．3　立体像表示技術　本田捷夫　51
第1章　1．6．4　画像処理・特殊イメージング法　本田捷夫　53
第1章　1．7　視覚光学　56
第1章　1．7．1　生理光学　畑田豊彦　56
第1章　1．7．2　測色・色彩　重松征史　63
第1章　1．7．3　光源・測光　金谷末子　65
第1章　文献　69
第2章　量子エレクトロニクス　伊賀健一，永井治男，狩野覚
第2章　2．1　量子エレクトロニクスの基礎　山本喜久　75
第2章　2．1．1　密度行列と電磁場の量子化　75
第2章　2．1．2　自然放出と誘導放出　76
第2章　2．1．3　レーザの基礎　77
第2章　2．1．4　非線形効果　78
第2章　2．2　ビーム光学とレーザ共振器　古屋一仁　79
第2章　2．2．1　ガウスビーム波　79
第2章　2．2．2　レーザ共振器　80
第2章　2．3　各種レーザ　83
第2章　2．3．1　固体レーザ　佐藤卓蔵　83
第2章　2．3．2　色素レーザ　〃　85
第2章　2．3．3　気体レーザ　堀田和明　87
第2章　2．3．4　エキシマレーザ　狩野覚　93
第2章　2．3．5　新レーザ　〃　94
第2章　2．4　半導体レーザ　95
第2章　2．4．1　半導体レーザの基礎特性　伊藤良一　95
第2章　2．4．2　量子井戸レーザ　山腰茂伸　97
第2章　2．4．3　長波長半導体レーザ　永井治男　99
第2章　2．4．4　短波長半導体レーザ　土方俊樹　101
第2章　2．4．5　集積化　梶原孝生　104
第2章　2．5　光導波　105
第2章　2．5．1　光導波の基礎　皆方誠　105
第2章　2．5．2　光ファイバ　稲垣伸夫　106
第2章　2．5．3　光導波型受動デバイス　西原浩　108
第2章　2．5．4　光導波型デバイス　西原浩　109
第2章　2．5．5　微小光学コンポーネント　西沢紘一　110
第2章　2．6　光・レーザ制御　大津元一　111
第2章　2．6．1　変調　111
第2章　2．6．2　非線形光学効果　112
第2章　2．6．3　レーザ制御　114
第2章　2．7　光検出　116
第2章　2．7．1 光検出の基礎事項　梅野正義　116
第2章　2．7．2　光検出器　梅野正義　117
第2章　2．7．3　微弱光検出　小林喬郎　119
第2章　2．8　レーザ応用　121
第2章　2．8．1　レーザ分光　上原喜代治　121
第2章　2．8．2　同位体分離　中根良平　122
第2章　2．8．3　大出力レーザと核融合　中井貞雄　123
第2章　2．8．4　光通信　橋本国生　124
第2章　2．8．5　光ディスク　角田義人　126
第2章　2．8．6　光プリンタ　稲垣雄史　127
第2章　2．8．7　レーザ計測　128
第2章　2．8．8　光波センシング　128
第2章　2．8．9　レーザ加工　嶋田隆司　128
第2章　文献　129
第3章　クライオエレクトロニクス　北津宏一，伊原英雄
第3章　3．1　超伝導の基礎　大塚泰一郎　137
第3章　3．1．1　超伝導のメカニズム　137
第3章　3．1．2　超伝導の特性　143
第3章　3．2　超伝導材料の概要　伊原英雄　145
第3章　3．2．1　超伝導物質概説　145
第3章　3．2．2　実用超伝導線材　149
第3章　3．2．3　超伝導素子材料　150
第3章　3．3　超伝導の応用　151
第3章　3．3．1　磁石および電力用への応用　岩本雅民　151
第3章　3．3．2　超伝導素子　篠木藤敏　155
第3章　文献　164
第4章　物理分析技術　小野雅敏，岡山重夫，市ノ川竹男
第4章　4．1　荷電粒子ビーム基礎技術　167
第4章　4．1．1　ビーム源　岡山重夫，古室昌徳　167
第4章　4．1．2　荷電粒子光学系　〃　168
第4章　4．1．3　質量分析法　田村一二三　169
第4章　4．2　電子線利用　172
第4章　4．2．1　透過型電子顕微鏡　菰田孜　172
第4章　4．2．2　走査型電子顕微鏡　村田顕二　174
第4章　4．2．3　電子線マイクロプローブX線分析法　市ノ川竹男　177
第4章　4．2．4　電子分光解析法　180
第4章　4．3　イオン利用　180
第4章　4．3．1　二次イオン質量分析法　田村一二三　180
第4章　4．3．2　光イオン化質量分析法　清水肇　184
第4章　4．3．3　ラザフォード後方散乱分析法　平木昭夫　186
第4章　4．3．4　粒子励起X線分析法　中島尚男　188
第4章　4．3．5　SCANIIR（粒子線衝撃光放射分析）　志水隆一　190
第4章　4．4　放射源線とその応用　191
第4章　4．4．1　放射線　富増多喜夫　191
第4章　4．4．2　中性子回折法　山田安定　196
第4章　4．4．3　放射線分析法　小林健二　198
第4章　4．4．4　陽電子消滅法　谷川庄一郎　200
第4章　4．5　光・X線利用　202
第4章　4．5．1　発光分光法　原口紘〓　202
第4章　4．5．2　光ルミネッセンス　原口紘〓　203
第4章　4．5．3　吸光分光法　末高洽　203
第4章　4．5．4　ラマン分光法　末高洽　207
第4章　4．5．5　EXAFS　大柳宏之　208
第4章　4．5．6　蛍光X線分析　岡下英男　210
第4章　4．6　電磁場利用　213
第4章　4．6．1．　核磁気共鳴法　亀井裕孟　213
第4章　4．6，2　電子スピン共鳴法　樋口治郎　214
第4章　4．6．3　メスバウアー法　伊藤厚子　215
第4章　4．7　音波利用　217
第4章　4．7．1　超音波スペクトロスコピー　御子柴宣夫　217
第4章　4．7．2　超音波顕微鏡　櫛引淳一　220
第4章　4．7．3　アコースティックエミッション　御子柴宣夫　221
第4章　4．7，4　光音響分光　御子柴宣夫　221
第4章　文献　222
第5章　表面　宇佐美誠二，山本恵彦
第5章　5．1　表面原子構造　229
第5章　5．1．1　原子配列　村田好正　229
第5章　5．1．2　表面原子振動　大島忠平　232
第5章　5．2　表面電子状態　234
第5章　5．2．1　表面準位　藤森淳　234
第5章　5．2．2　仕事関数　山本恵彦　236
第5章　5．3　表面解析法　238
第5章　5．3．1　低速電子回折法（LEED），反射高速電子回折法（RHEED）　河津璋　238
第5章　5．3．2　オージェ電子分光法（AES），電子エネルギー損失分光法（EELS）　小間篤　240
第5章　5．3．3　紫外光電子分光法（UPS），軟X線光電子分光法（XPS），ペニングイオン化電子分光法（PIES）　中沢正敏　242
第5章　5．3．4　電界放出電子顕微鏡（FEM），電界イオン顕微鏡（FIM），走査形トンネル顕復鏡（STM）　中村勝吾　244
第5章　5．3．5　イオン散乱分光法（ISS）　青野正和　246
第5章　5．3．6　SEXAFS（Surface EXAFS）　249
第5章　5．3．7　偏光解析法（エリプソメトリー）　249
第5章　5．3．8　表面ラマン散乱法（SERS）　仁木克己　250
第5章　5．3．9　反射赤外分光法　末高洽　251
第5章　5．3．10　原子線回折法　酒井明　252
第5章　5．3．11　表面分析法一覧表　中沢正敏　253
第5章　5．4　吸着　254
第5章　5．4．1　物理吸着　高石哲男　254
第5章　5．4．2　化学吸着　恩地勝　256
第5章　5．4．3　表面拡散　中村勝吾　260
第5章　5．5　脱離　260
第5章　5．5．1　熱脱離　川崎弘司　260
第5章　5．5．2　電子刺激脱離　永井士郎　261
第5章　5．5．3　光刺激脱離　村田好正　262
第5章　5．5．4　電界蒸発　中村勝吾　263
第5章　5．6　巨視特性　264
第5章　5．6．1　表面の熱力学　河野彰夫　264
第5章　5．6．2　接触と硬さ　河野彰夫　265
第5章　5．6．3　摩擦と潤滑　河野彰夫　265
第5章　5．6．4　表面損傷　河野彰夫　266
第5章　5．6．5　エキソ電子放出　藤村亮一郎　267
第5章　文献　268
第6章　薄膜　金原粲，魚住清彦
第6章　6．1　薄膜形成法　275
第6章　6．1．1　真空蒸着法　伊藤昭夫　275
第6章　6．1．2　スパッタリング法　細川直吉　278
第6章　6．1．3　イオンプレーティング法　村山洋一，柏木邦宏　281
第6章　6．1．4　化学蒸着法（CVD法）　広瀬全孝，英貢　284
第6章　6．1．5　有機薄膜の形成法　森田慎三　288
第6章　6．2　薄膜の構造　289
第6章　6．2．1　金属　八木克道，井野正三　289
第6章　6．2．2　半導体　安田幸夫　293
第6章　6．2．3　セラミック膜　田畑三郎　299
第6章　6．2．4　有機薄膜　森田慎三　304
第6章　6．3　薄膜の物性　306
第6章　6．3．1　機械的性質　馬場茂　306
第6章　6．3．2　電気的性質　魚住清彦　308
第6章　6．3．3　磁気的性質　権藤靖夫　311
第6章　6．3．4　光学的性質　吉田貞史　313
第6章　6．4　薄膜評価法　315
第6章　6．4．1　ローレンツ顕微鏡　塚原園子　315
第6章　6．4．2　偏光解析法（エリプソメトリー）　山口十六夫　318
第6章　6．4．3　膜厚測定法　沢木司　320
第6章　文献　322
第7章　結晶成長，評価技術　芦田佐吉，守矢一男
第7章　7．1　結晶成長の基礎　327
第7章　7．1．1　結晶成長理論　小林信之　327
第7章　7．1．2　相図の読み方　芦田佐吉　330
第7章　7．2　バルク結晶成長法　333
第7章　7．2．1　水溶性結晶析出法　古畑芳男　333
第7章　7．2．2　フラックス法　芦田佐吉　335
第7章　7．2．3　ブリッジマン・ストックバーガー法　木村茂行　337
第7章　7．2．4　引上法　干川圭吾，福田承生，宮沢靖人　339
第7章　7．2．5　フローティングゾーン法　木村茂行　343
第7章　7．2．6　特殊な方法　芦田佐吉　344
第7章　7．2．7　水熱合成法　滝貞男　346
第7章　7．3　薄膜結晶成長法　347
第7章　7．3．1 液相エピタクシー法（LPE法）　海野恒弘，倉田一宏　347
第7章　7．3．2　気相成長法（VPE法）　渡辺久恒，碓井彰　349
第7章　7．3．3　有機金属気相成長法（MOVPE法）　高橋清　352
第7章　7．3．4　分子線エピタクシー法（MBE法）　高橋清　354
第7章　7．3．5　ガスソース分子線エピタクシー法（MOMBE法）　高橋清　355
第7章　7．3．6　原子層エピタクシー法（ALE法）　高橋清　356
第7章　7．3．7　絶縁体上固体エピタクシー（SOI），サファイア基板上固体エピタクシー（SOS），ブラフォエピタクシー　蕨迫光紀　357
第7章　7．4　結晶評価技術　358
第7章　7．4．1　結晶　大隅一政　358
第7章　7．4．2　結晶光学　古畑芳男　362
第7章　7．4．3　結晶光学的評価法　守矢一男　368
第7章　7．4．4　X線回折による結晶の評価　高野幸男　371
第7章　7．4．5　エッチング法による結晶評価法　芦田佐吉　375
第7章　7．5　素子化技術　377
第7章　7．5．1　加工に際する基本的考え方　高須新一郎　377
第7章　7．5．2　定方位切断・研磨　高須新一郎　379
第7章　7．5．3　研磨・エッチング・洗浄　高須新一郎　382
第7章　7．5．4　球・円筒の製作　高須新一郎　384
第7章　文献　384
第8章　半導体の基礎物性　菅田孝之，河東田隆
第8章　8．1　半導体の歴史と特徴　菅野卓雄　391
第8章　8．1．1　半導体の歴史　391
第8章　8．1．2　半導体の分類と特徴　393
第8章　8．2　結晶構造とエネルギー帯　奥村次徳　394
第8章　8．2．1　結晶構造　394
第8章　8．2．2　エネルギー帯　398
第8章　8．2．3　半導体物性制御　401
第8章　8．3　電子物性　403
第8章　8．3．1　不純物準位　大泊巌　403
第8章　8．3．2　キャリア分布　大泊巌　403
第8章　8．3．3　キャリア輸送現象　鈴木克生　404
第8章　8．3．4　キャリアの捕獲と再結合　鈴木克生　407
第8章　8．4　光物性　神谷武志　408
第8章　8．4．1　光吸収と発光　408
第8章　8．4．2　光伝導　411
第8章　8．4．3　透過・屈折・散乱　412
第8章　8．5　超格子物性　榊裕之，平川一彦　413
第8章　8．5．1　ヘテロ接合物性の基礎　413
第8章　8．5．2　超格子の分類と特徴　414
第8章　8．5．3　超格子のバンド構造　415
第8章　8．5．4　超格子の電気的性質　416
第8章　8．5．5　超格子の光学的性質　418
第8章　8．6　表面物性　長谷川英　419
第8章　8．6．1　半導体表面の電子状態　419
第8章　8．6．2　金属と半導体との接触　420
第8章　8．6．3　絶縁膜と半導体との接触　421
第8章　8．6．4　表面再結合　423
第8章　8．7　熱電効果と圧電効果　尾崎肇　424
第8章　8．7．1　熱電効果　424
第8章　8．7．2　熱電子放出　425
第8章　8．7．3　圧電効果　426
第8章　8．8　半導体評価技術　427
第8章　8．8．1　電気的性質による評価　河東田隆，奥村次徳　427
第8章　8．8．2　光学的性質による評価　神谷武志　440
第8章　文献　442
第9章　半導体デバイス　笠見昭信，西義雄，水谷嘉久
第9章　9．1　半導体デバイスの歴史と特徴　生駒俊明　449
第9章　9．1．1　半導体デバイスの歴史　449
第9章　9．1．2　半導体デバイスの分類と特徴　450
第9章　9．2　ダイオード　451
第9章　9．2．1　pn接合ダイオード　生駒俊明　451
第9章　9．2．2　ショットキーダイオード　生駒俊明　453
第9章　9．2．3　トンネルダイオード　生駒俊明　454
第9章　9．2．4　電子遷移効果素子　木村親夫　454
第9章　9．2．5　走行時間素子　井野正行　456
第9章　9．2．6　超格子応用素子　生駒俊明　457
第9章　9．2．7　受動素子　佐藤安夫　459
第9章　9．3　バイポーラトランジスタ　酒井徹志　460
第9章　9．3．1　基本動作原理　461
第9章　9．3．2　高周波，高速トランジスタ　465
第9章　9．3．3　パワートランジスタ　466
第9章　9．4　電界効果トランジスタ　468
第9章　9．4．1　電界効果トランジスタ　水谷喜久　468
第9章　9．4．2　接合形電界効果トランジスタ　御手洗五郎　468
第9章　9．4．3　ショットキーゲート電界効果トランジスタ　亀井清雄　470
第9章　9．4．4　MOS電界効果トランジスタ　名取研二　472
第9章　9．5　MIS応用バイス　萩原隆旦，神垣良昭　476
第9章　9．5．1　不揮発性メモリ　476
第9章　9．5．2　キャパシタ　478
第9章　9．5．3　CCD（Charge Coupled Device）　479
第9章　9．6　LSI　480
第9章　9．6．1　Si LSI　近藤衛　480
第9章　9．6．2　GaAs LSI　平山昌宏　490
第9章　9．7　ヘテロ構造デバイス　493
第9章　9．7．1　ヘテロ接合バイポーラトランジスタ　菅田孝之　493
第9章　9．7．2　ヘテロ接合電界効果トランジスタ　三村高志　496
第9章　9．8　光デバイス　499
第9章　9．8．1　発光ダイオード　別府達郎　499
第9章　9．8．2　レーザダイオード　502
第9章　9．8．3　太陽電池　小長井誠　502
第9章　9．8．4　受光デバイス　506
第9章　9．8．5　固体撮像デバイス　鈴木信雄　506
第9章　9．9　サイリスタ　生駒俊明　508
第9章　文献　509
第10章　半導体製造技術　近藤衛，有田睦信
第10章　10．1　概説　517
第10章　10．1．1　半導体プロセス技術の発展　荒井英輔　517
第10章　10．1．2　プロセス設計　〃　520
第10章　10．1．3　素子形成技術　橋本哲一　521
第10章　10．1．4　プロセスシミュレーション　〃　525
第10章　10．2　プロセス管理・評価　荒井英輔　527
第10章　10．2．1　プロセス評価　527
第10章　10．2．2　プロセス環境　528
第10章　10．2．3　安全管理　529
第10章　10．3　素子分離技術　石川元　530
第10章　10．3．1　pn接合分離　531
第10章　10．3．2　選択酸化分離　531
第10章　10．3．3　誘電体分離　533
第10章　10．3．4　新分離技術　534
第10章　10．4　電極配線技術　豊蔵信夫　536
第10章　10．4．1　電極配線に必要な性質，形成方法　536
第10章　10．4．2　アルミニウムとその合金　537
第10章　10．4．3　高融点金属シリサイド　538
第10章　10．4．4　多層配線技術　539
第10章　10．4．5　電極配線の信頼性　540
第10章　10．5　洗浄・エッチング技術　荒井英輔　542
第10章　10．5．1　洗浄　542
第10章　10．5．2　ウェットエッチング　543
第10章　10．6　薄膜形成技術　有田睦信　545
第10章　10．6．1　Siの酸化，窒化　545
第10章　10．6．2　Si，多結晶Si，絶縁物，金属，シリサイドCVD　547
第10章　10．6．3　Si，絶縁物，金属，シリサイドPVD　549
第10章　10．7　リソグラフィ技術　森克己　552
第10章　10．7．1　技術の分類　552
第10章　10．7．2　光露光　552
第10章　10．7．3　電子ビーム露光　554
第10章　10．7．4　X線、SR露光　555
第10章　10．7．5　レジスト　556
第10章　10．8　ドライエッチング技術　柴田俊隆　558
第10章　10．8．1　分類と特徴　558
第10章　10．8．2　プラズマエッチング　558
第10章　10．8．3　イオンエッチング　561
第10章　10．8．4　光増速エッチング　562
第10章　10．8．5　エッチング損傷　562
第10章　10．9　不純物導入技術　谷口研二　563
第10章　10．9．1　不純物拡散　563
第10章　10．9．2　熱拡散　565
第10章　16．9．3　イオン注入　566
第10章　10．10　化合物半導体プロセス技術　東坂浅光　567
第10章　10．10．1　素子形成プロセス　567
第10章　10．10．2　拡散・イオン注入技術　568
第10章　10．10．3　電極形成　570
第10章　10．10．4　エッチング　572
第10章　10．10．5　薄膜形成　573
第10章　10．11　実装技術　長尾工司　574
第10章　10．11．1 組立技術　574
第10章　10．11．2　システム実装　576
第10章　10．11．3　今後の動向　577
第10章　文献　578
第11章　アモルファス半導体材料　田中一宜，清水立生
第11章　11．1　基礎物性　森垣和夫　589
第11章　11．1．1　構造のみだれと電子状態　589
第11章　11．1．2　移動度端，移動度ギャップ　591
第11章　11．1．3　光物性　592
第11章　11．1．4　輸送現象　596
第11章　11．2　作製法概要　田中一宜　599
第11章　11．2．1　アモルファス構造と熱力学的考察　599
第11章　11．2．2　液相凍結法　601
第11章　11．2．3　気相凍結法　602
第11章　11．3　アモルファスSi系材料　603
第11章　11．3．1　水素化アモルファスSi　田中一宜　603
第11章　11．3．2　価電子制御　岡本博明　605
第11章　11．3．3　局在準位と評価法　大串秀世　607
第11章　11．3．4　光劣化現象　嶋田寿一　610
第11章　11．3．5　多層膜（人工格子）の物性　鯉沼秀臣，川崎雅司　612
第11章　11．3．6　多元系材料　森本章治　615
第11章　11．4　カルコゲナイド系材料　618
第11章　11．4．1　構造と電子状態　清水立生　618
第11章　11．4．2　構造欠陥と不純物　〃　620
第11章　11．4．3　光誘起の諸現象　久米田稔　622
第11章　11．4．4　多層膜の物性　清水立生　624
第11章　11．5　種々の応用技術　625
第11章　11．5．1　概要　丸山瑛一　625
第11章　11．5．2　太陽電池　626
第11章　11．5．3　電子写真　清水勇　626
第11章　11．5．4　撮像管　627
第11章　11．5．5　薄膜トランジスタ　松村正清　627
第11章　11．5．6　各種センサ　桑野幸徳　628
第11章　11．5．7　光記録媒体　丸山瑛一　630
第11章　11．5．8　リソグラフィ　631
第11章　11．5．9　その他の応用　内田喜之　631
第11章　文献　632
第12章　磁性材料　権藤靖夫，能勢宏，末沢慶孝
第12章　12．1　磁性の基礎　639
第12章　12．1．1　自発磁化　能勢宏　639
第12章　12．1．2　磁気異方性　能勢宏　641
第12章　12．1．3　磁歪　角野圭一　642
第12章　12．1．4　磁区　末沢慶孝　643
第12章　12．1．5　静的磁化過程　末沢慶孝　644
第12章　12．1．6　動的磁化過程　角野圭一　645
第12章　12．1．7　磁気共鳴　能勢宏　646
第12章　12．1．8　電流磁気効果　牧野好美　648
第12章　12．1．9　磁気光学効果　権藤靖夫　649
第12章　12．1．10　薄膜・微粒子　能勢宏　650
第12章　12．2　高透磁率材料　651
第12章　12．2．1　金属ソフト材料　権藤靖夫　651
第12章　12．2．2　フェライトソフト材料　権藤靖夫　652
第12章　12．2．3　アモルファスソフト磁性材料　藤森啓安　654
第12章　12．3　永久磁石材料　岩間義郎　658
第12章　12．3．1　金属磁石　658
第12章　12．3．2　フェライト磁石　660
第12章　12．3．3　希土類磁石　661
第12章　12．4　磁気記録　663
第12章　12．4．1　磁気記録　中村慶久　663
第12章　12．4．2　磁気バブル　杉田愃　667
第12章　12．4．3　光磁気記録　今村修武　671
第12章　12．5　磁気応用　673
第12章　12．5．1　スイッチングレギュレータ，インダクタ，周波数変換　原田耕介　673
第12章　12．5．2　磁気センサ　〃　675
第12章　12．5．3　磁気分離　岡本祥一　676
第12章　12．5．4　磁性流体　中塚勝人　677
第12章　文献　678
第13章　計測技術　森村正直，岡路正博
第13章　13．1　計測システムの設計　森村正直　685
第13章　13．1．1　測定誤差の要因と性質　685
第13章　13．1．2　測定誤差の軽減対策　686
第13章　13．1．3　高信頼度計測システムの設計法　687
第13章　13．2　計測システムの要素　688
第13章　13．2．1　センシング条件と極端条件　黒田正明　688
第13章　13．2．2　センサ技術　森村正直　690
第13章　13．2．3　信号処理システム　南茂夫　694
第13章　13．2．4　データ処理と評価　南茂夫　701
第13章　13．2．5　計測のための制御技術　北森俊行　706
第13章　13．3　物理量の単位と標準　708
第13章　13．3．1　国際単位系（SI）　増井敏郎　708
第13章　13．3．2　基本単位とその実現　中段和宏　709
第13章　13．3．3　基礎物理定数とその決定法　原宏　711
第13章　13．4　物理量の計測技術　714
第13章　13．4．1　幾何学量　松本弘一　714
第13章　13．4．2　運動学量　原田謹爾　717
第13章　13．4．3　力学量　大岩彰　719
第13章　13．4．4　熱学量　桜井弘久　721
第13章　13．4．5　電磁気量　菅野允　724
第13章　文献　735
第14章　極端環境技術　生嶋明，辻泰，三浦登
第14章　14．1　低温技術　741
第14章　14．1．1　はじめに　生嶋明　741
第14章　14．1．2　低温生成　〃　742
第14章　14．1．3　測温　奈良広一　753
第14章　14．1．4　測定技術　生嶋明　755
第14章　14．2　高温技術　鈴木賢次郎，遠藤裕久　756
第14章　14．2．1　はじめに　756
第14章　14．2．2　高温生成　757
第14章　14．2．3　高温測定　759
第14章　14．2．4　高温での物性測定　761
第14章　14．3　強磁場技術　763
第14章　14．3．1　はじめに　三浦登　763
第14章　14．3．2　強磁場の発生　太刀川恭治，伊達宗行，中川康昭，藤原修三，三浦登　763
第14章　14．3．3　磁場強度の測定　木戸義勇　771
第14章　14．3．4　強磁場下の物質測定　後藤恒昭，三浦登　772
第14章　14．4　高圧技術　774
第14章　14．4．1　はじめに—高圧科学概説—　秋本俊一　774
第14章　14．4．2　高圧力の発生　秋本俊一，庄野安彦　775
第14章　14．4．3　高圧力の測定　秋本俊一　779
第14章　14．4．4　高圧下の物性測定技術　毛利信男　782
第14章　14．5　超高真空技術　786
第14章　14．5．1　はじめに　辻泰　786
第14章　14．5．2　基礎　岡野達雄　786
第14章　14．5．3　測定技術　辻泰　788
第14章　14．5．4　排気技術　小林正典　792
第14章　14．5．5　真空材料　本間禎一　794
第14章　14．5．6　部品と可動機構　岡野達雄，本間禎一　797
文献　800
索引　805
記号索引　831

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