窒化物系極薄膜の作製...

窒化物系極薄膜の作製をめざした真空紫外光プロセス (特集 材料開発の新しい可能性)

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窒化物系極薄膜の作製をめざした真空紫外光プロセス

(特集 材料開発の新しい可能性)

国立国会図書館請求記号
Z17-54
国立国会図書館書誌ID
9793077
資料種別
記事
著者
横谷 篤至
出版者
東京 : 小峰工業出版
出版年
2009-02
資料形態
掲載誌名
化學工業 60(2) (通号 708) 2009.2
掲載ページ
p.136~142
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書誌情報

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資料種別
記事
著者・編者
横谷 篤至
著者標目
並列タイトル等
Processings for ultra-thin films of nitrides utilizing the vacuum ultraviolet radiation
タイトル(掲載誌)
化學工業
巻号年月日等(掲載誌)
60(2) (通号 708) 2009.2
掲載巻
60
掲載号
2