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資料種別 記事・論文

Study of Spatial Distribution of SiH3 Radicals in Very High Frequency Plasma Using Cavity Ringdown Spectroscopy

Takehiko Nagai,Arno H. M. Smets,Michio Kondo

詳細情報

タイトル Study of Spatial Distribution of SiH3 Radicals in Very High Frequency Plasma Using Cavity Ringdown Spectroscopy
著者 Takehiko Nagai
著者 Arno H. M. Smets
著者 Michio Kondo
シリーズ名 Special Issue: Plasma Processing
出版地(国名コード) JP
出版年(W3CDTF) 2006-10
件名(キーワード) μc-Si:H
件名(キーワード) SiH3 radical
NDLC ZM35
対象利用者 一般
資料の種別 記事・論文
掲載誌情報(URI形式) https://iss.ndl.go.jp/books/R100000002-I000000159719-00
掲載誌情報(ISSN形式) 00214922
掲載誌情報(ISSN-L形式) 00214922
掲載誌名 Japanese journal of applied physics. Part. 1, Regular papers, brief communications & review papers : JJAP
掲載巻 45
掲載巻 Special Issue
掲載号 10B
掲載通号 642
掲載ページ 8095~8098
言語(ISO639-2形式) eng : English

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