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資料種別 記事・論文

触媒金属を用いた非晶質SiGe薄膜/ガラスの低温固相成長

菅野 裕士,権丈 淳,佐道 泰造 他

詳細情報

タイトル 触媒金属を用いた非晶質SiGe薄膜/ガラスの低温固相成長
著者 菅野 裕士
著者 権丈 淳
著者 佐道 泰造 他
出版地(国名コード) JP
出版年(W3CDTF) 2006-04
件名(キーワード) 金属誘起固相成長
件名(キーワード) シリコンゲルマニウム
件名(キーワード) SiGe
件名(キーワード) 薄膜トランジスタ
件名(キーワード) 低温結晶化
件名(キーワード) 電解誘起成長
件名(キーワード) metal-induced lateral crystallization
件名(キーワード) silicon germanium
件名(キーワード) thin-film transistor
件名(キーワード) low-temperature crystallization
件名(キーワード) electric-field induced crystallization
NDLC ZN33
対象利用者 一般
資料の種別 記事・論文
掲載誌情報(URI形式) https://iss.ndl.go.jp/books/R100000002-I000000050569-00
掲載誌情報(ISSN形式) 09135685
掲載誌情報(ISSN-L形式) 09135685
掲載誌名 電子情報通信学会技術研究報告 = IEICE technical report : 信学技報
掲載巻 106
掲載号 7
掲載ページ 7~12
言語(ISO639-2形式) jpn : 日本語

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