サイトメニューここからこのページの先頭です

ショートカットキーの説明を開始します。画面遷移や機能実行は、説明にあるショートカットキーを同時に押した後、Enterキーを押してください。ショートカットキーの説明を聞くには、Alt+0。トップ画面の表示には、Alt+1。ログインを行うには、Alt+2。簡易検索画面の表示には、Alt+3。詳細検索画面の表示には、Alt+4。障害者向け資料検索画面の表示には、Alt+5。検索結果の並び替えを行うには、Alt+6。国立国会図書館ホームページの表示には、Alt+7。検索結果の絞り込みを行うには、Alt+8。以上でショートカットキーの説明を終わります。

ナビゲーションここから

ナビゲーションここまで

本文ここから

資料種別 記事・論文

Resist Characteristics of Acryl Polymer with Methyl Acetal Protecting Group for 193 nm Lithography

Toshiyuki Ogata,Shogo Matsumaru,Ryusaku Takahashi 他

詳細情報

タイトル Resist Characteristics of Acryl Polymer with Methyl Acetal Protecting Group for 193 nm Lithography
著者 Toshiyuki Ogata
著者 Shogo Matsumaru
著者 Ryusaku Takahashi 他
出版地(国名コード) JP
出版年(W3CDTF) 2005
件名(キーワード) chemical amplification positive-tone resist
件名(キーワード) deprotection reactivity
件名(キーワード) PEB sensitivity
NDLC ZP48
対象利用者 一般
資料の種別 記事・論文
掲載誌情報(URI形式) https://iss.ndl.go.jp/books/R100000002-I000000156586-00
掲載誌情報(ISSN形式) 09149244
掲載誌情報(ISSN-L形式) 09149244
掲載誌名 Journal of photopolymer science and technology
掲載巻 18
掲載号 3
掲載ページ 393~398
言語(ISO639-2形式) eng : English

本文ここまで

Copyright © 2012 National Diet Library. All Rights Reserved.

フッター ここまで