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資料種別 記事・論文

Metalorganic Chemical Vapor Deposition of Thin Film ZrO2 and Pb(Zr,Ti)O3: Precursor Chemistry and Process Characteristics

Ing-Shin Chen,Bryan C. Hendrix,Steven M. Bilodeau 他

詳細情報

タイトル Metalorganic Chemical Vapor Deposition of Thin Film ZrO2 and Pb(Zr,Ti)O3: Precursor Chemistry and Process Characteristics
著者 Ing-Shin Chen
著者 Bryan C. Hendrix
著者 Steven M. Bilodeau 他
シリーズ名 Special Issue Ferroelectric Materials and Their Applications
出版地(国名コード) JP
出版年(W3CDTF) 2002-11
件名(キーワード) ferroelectric memory
件名(キーワード) lead zirconate titanate
件名(キーワード) MOCVD
件名(キーワード) zirconium oxide
NDLC ZM35
対象利用者 一般
資料の種別 記事・論文
掲載誌情報(URI形式) https://iss.ndl.go.jp/books/R100000002-I000000159719-00
掲載誌情報(ISSN形式) 00214922
掲載誌情報(ISSN-L形式) 00214922
掲載誌名 Japanese journal of applied physics. Part. 1, Regular papers, brief communications & review papers : JJAP
掲載巻 41
掲載巻 Special Issue
掲載号 11B
掲載通号 567
掲載ページ 6695~6700
言語(ISO639-2形式) eng : English

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