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資料種別 記事・論文

Microscopic Observation of X-Ray Irradiation Damage in Ultra-Thin SiO2 Films

Kenji Ohmori,Tomokazu Goto,Hiroya Ikeda 他

詳細情報

タイトル Microscopic Observation of X-Ray Irradiation Damage in Ultra-Thin SiO2 Films
著者 Kenji Ohmori
著者 Tomokazu Goto
著者 Hiroya Ikeda 他
シリーズ名 Solid State Devices & Materials
出版地(国名コード) JP
出版年(W3CDTF) 2001-04
件名(キーワード) Si(100)
件名(キーワード) local electronic states
件名(キーワード) hole/electron trap
件名(キーワード) scanning tunneling microscopy
件名(キーワード) X-ray photoelectron spectroscopy
NDLC ZM35
対象利用者 一般
資料の種別 記事・論文
掲載誌情報(URI形式) https://iss.ndl.go.jp/books/R100000002-I000000159719-00
掲載誌情報(ISSN形式) 00214922
掲載誌情報(ISSN-L形式) 00214922
掲載誌名 Japanese journal of applied physics. Part. 1, Regular papers, brief communications & review papers : JJAP
掲載巻 40
掲載巻 増刊
掲載号 4B
掲載通号 538
掲載ページ 2823~2826
言語(ISO639-2形式) eng : English

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