Pore Characteristics of Low-Dielectric-Constant Films Grown by Plasma-Enhanced Chemical Vapor Deposition Studied by Positron Annihilation Lifetime Spectroscopy
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CiNii Research
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書誌情報
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- 資料種別
- 記事
- 著者・編者
- Ryoichi SuzukiToshiyuki OhdairaYoshimi Shioya 他
- タイトル（掲載誌）
- Japanese journal of applied physics. Pt. 2, Letters
- 巻号年月日等（掲載誌）
- 40(4B) (通号 343) 2001.4.15
- 掲載巻
- 40
- 掲載号
- 4B
- 掲載通号
- 343
- 掲載ページ
- L414～416