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資料種別 記事・論文

Pore Characteristics of Low-Dielectric-Constant Films Grown by Plasma-Enhanced Chemical Vapor Deposition Studied by Positron Annihilation Lifetime Spectroscopy

Ryoichi Suzuki,Toshiyuki Ohdaira,Yoshimi Shioya 他

詳細情報

タイトル Pore Characteristics of Low-Dielectric-Constant Films Grown by Plasma-Enhanced Chemical Vapor Deposition Studied by Positron Annihilation Lifetime Spectroscopy
著者 Ryoichi Suzuki
著者 Toshiyuki Ohdaira
著者 Yoshimi Shioya 他
出版地(国名コード) JP
出版年(W3CDTF) 2001-04-15
件名(キーワード) low-k
件名(キーワード) hexamethyldisiloxane
件名(キーワード) slow positron beam
件名(キーワード) positron lifetime
件名(キーワード) pore size
NDLC ZM35
対象利用者 一般
資料の種別 記事・論文
掲載誌情報(URI形式) https://iss.ndl.go.jp/books/R100000002-I000000159720-00
掲載誌情報(ISSN形式) 00214922
掲載誌情報(ISSN-L形式) 00214922
掲載誌名 Japanese journal of applied physics. Pt. 2, Letters
掲載巻 40
掲載号 4B
掲載通号 343
掲載ページ L414~416
言語(ISO639-2形式) eng : English

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