シリコン融液表面のア...

シリコン融液表面のアルゴンガス流れと単結晶中の酸素濃度 (小特集 バルク成長分科会特集--結晶成長時における気液界面の物質移動と結晶に与える影響)

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シリコン融液表面のアルゴンガス流れと単結晶中の酸素濃度(小特集 バルク成長分科会特集--結晶成長時における気液界面の物質移動と結晶に与える影響)

国立国会図書館請求記号
Z15-339
国立国会図書館書誌ID
5597556
資料種別
記事
著者
町田 倫久ほか
出版者
大阪 : 日本結晶成長学会
出版年
2000
資料形態
掲載誌名
日本結晶成長学会誌 = Journal of the Japanese Association for Crystal Growth 27(5) 2000
掲載ページ
p.275~280
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デジタル

資料種別
記事
著者・編者
町田 倫久
干川 圭吾
清水 保雄
タイトル(掲載誌)
日本結晶成長学会誌 = Journal of the Japanese Association for Crystal Growth
巻号年月日等(掲載誌)
27(5) 2000
掲載巻
27
掲載号
5
掲載ページ
275~280