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雑誌Japanese journal of applied physics Part. 1 Regular papers, brief communications & review papers : JJAP
巻号Part. 1 Part. 1 36(7B)(465);JULY 1997
記事Behavior o...

Behavior of Electrons and Negative Ions in a Capacitively-Coupled Radio-Frequency NF3/Ar Plasma (Plasma Processing)

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CiNii Research

Behavior of Electrons and Negative Ions in a Capacitively-Coupled Radio-Frequency NF3/Ar Plasma(Plasma Processing)

国立国会図書館請求記号
Z53-A375
国立国会図書館書誌ID
4270450
資料種別
記事
著者
Toshiyasu Hayashiほか
出版者
Tokyo : Published by the Japan Society of Applied Physics through the Institute of Pure and Applied Physics
出版年
1997-07
資料形態
デジタル
掲載誌名
Japanese journal of applied physics. Part. 1, Regular papers, brief communications & review papers : JJAP 36(7B) 1997.07
掲載ページ
p.4651～4655
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資料詳細

要約等：

The behaviors of electrons and negative ions in a low-pressure (100 mTorr) capacitively-coupled radio-frequency (13.56 MHz) NF<SUB>3</SUB>/Ar plasma h...

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デジタル

資料種別
記事
タイトル
Behavior of Electrons and Negative Ions in a Capacitively-Coupled Radio-Frequency NF3/Ar Plasma
著者・編者
Toshiyasu Hayashi
Akihiro Kono
Toshio Goto
シリーズタイトル
Plasma Processing
著者標目
Toshiyasu Hayashi
Akihiro Kono
Toshio Goto
タイトル（掲載誌）
Japanese journal of applied physics. Part. 1, Regular papers, brief communications & review papers : JJAP
巻号年月日等（掲載誌）
36(7B) 1997.07
掲載巻
36
掲載号
7B
掲載ページ
4651～4655