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資料種別 記事・論文

Mechanism for Desorption of SiF4 from an SiO2 Film Surface in HF Solutions

Tomoki Oku,Kazuhiko Sato,Mutsuyuki Otsubo

詳細情報

タイトル Mechanism for Desorption of SiF4 from an SiO2 Film Surface in HF Solutions
著者 Tomoki Oku
著者 Kazuhiko Sato
著者 Mutsuyuki Otsubo
シリーズ名 Solid State Devices and Materials
出版地(国名コード) JP
出版年(W3CDTF) 1997-03
NDLC ZM35
対象利用者 一般
資料の種別 記事・論文
掲載誌情報(URI形式) https://iss.ndl.go.jp/books/R100000002-I000000159719-00
掲載誌情報(ISSN形式) 00214922
掲載誌情報(ISSN-L形式) 00214922
掲載誌名 Japanese journal of applied physics. Part. 1, Regular papers, brief communications & review papers : JJAP
掲載巻 36
掲載号 3B
掲載ページ 1374~1379
言語(ISO639-2形式) eng : English

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