記事・論文
| タイトル | 静電流動層の分離技術への応用 |
|---|---|
| 著者 | 緒方 純俊 |
| 出版地（国名コード） | JP |
| 出版地 | 東京 |
| 出版社 | 化学工学会 |
| 出版年月日等 | 49(2) 1985.02 |
| 注記 | 記事分類: 化学・化学工業--化学工学--粉・流体の処理と装置 |
| 出版年(W3CDTF) | 1985-02 |
| NDLC | ZP5 |
| 対象利用者 | 一般 |
| 資料の種別 | 記事・論文 |
| 掲載誌情報（URI形式） | https://iss.ndl.go.jp/books/R100000002-I000000003443-00 |
| 掲載誌情報（ISSN形式） | 03759253 |
| 掲載誌情報（ISSN-L形式） | 03759253 |
| 掲載誌名 | 化学工学 = Chemical engineering of Japan |
| 掲載巻 | 49 |
| 掲載号 | 2 |
| 掲載ページ | p132～136 |
| 言語（ISO639-2形式） | jpn : 日本語 |
