記事・論文
타이틀 | 反跳インプランテーションによるテクネチウムなどの新物質の合成とその生成機構 |
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책임표시 | 吉原 賢二 |
책임표시 | 関根 勉 |
시리즈명 | 化学における活性化の新展開-2-レーザー・プラズマ・超音波・磁場・電場などの利用<特集> |
출판 지명(국명 코드) | JP |
출판 지명 | 東京 |
출판사 | 日本化学会 |
출판 연월일 등 | 1984(11) 1984.11 |
출판 년도(W3CDTF) | 1984-11 |
NDLC | ZP1 |
대상이용자 | 一般 |
자료 종별 | 記事・論文 |
게재지 정보. (URI 형식) | https://iss.ndl.go.jp/books/R100000002-I000000018251-00 |
게재지 정보. (ISSN 형식) | 03694577 |
게재지 정보. (ISSN-L 형식) | 03694577 |
게재지명 | 日本化学会誌 : 化学と工業化学 / 日本化学会 編 |
게재 권 | 1984 |
게재 호 | 11 |
게재 페이지 | p1873~1879 |
언어(ISO639-2 형식) | jpn : 日本語 |