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書誌情報
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- 資料種別
- 記事
- 著者・編者
- 久住 孝幸中村 竜太越後谷 正見
- 並列タイトル等
- Development of the advanced polishing technology for next-generation semiconductor substrates using controlled slurry under AC electric field(5)
- タイトル（掲載誌）
- 業務年報 = Annual report of Akita Industrial Technology Center / 秋田県産業技術センター 編
- 巻号年月日等（掲載誌）
- 2017年度
- 掲載ページ
- 98-101
- 掲載年月日（W3CDTF）
- 2017
- ISSN（掲載誌）
- 2187-3380