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資料種別 記事・論文

CoPtCrSiターゲットの酸素リアクティブスパッタリングによるCoPtCr–SiO₂グラニュラー薄膜の低ガス圧成膜

佐々木 晋五,タム キムコング,日向 慎太朗,斉藤 伸

詳細情報

タイトル CoPtCrSiターゲットの酸素リアクティブスパッタリングによるCoPtCr–SiO₂グラニュラー薄膜の低ガス圧成膜
著者 佐々木 晋五
著者 タム キムコング
著者 日向 慎太朗
著者 斉藤 伸
出版地(国名コード) JP
別タイトル Low–pressure Deposition of CoPtCr–SiO₂ Granular Films by Ar+O₂ Reactive Sputtering Using CoPtCrSi Target
出版年(W3CDTF) 2018-07
件名(キーワード) oxygen reactive sputtering
件名(キーワード) granular film
件名(キーワード) CoPtCr
件名(キーワード) perpendicular magnetic recording media
NDLC ZN15
対象利用者 一般
資料の種別 記事・論文
掲載誌情報(URI形式) https://iss.ndl.go.jp/books/R100000002-I028592749-00
掲載誌情報(ISSN形式) 24335835
掲載誌情報(ISSN-L形式) 24335835
掲載誌名 表面と真空 = Vacuum and surface science / 日本表面科学会, 日本真空学会 編
掲載巻 61
掲載号 7
掲載ページ 469-473
言語(ISO639-2形式) jpn : 日本語

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