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資料種別 記事・論文

IGZO薄膜に対する成膜条件による影響

西野 克弥,高橋 宏太,松田 時宜 他

詳細情報

タイトル IGZO薄膜に対する成膜条件による影響
著者 西野 克弥
著者 高橋 宏太
著者 松田 時宜 他
シリーズ名 シリコン材料・デバイス
出版地(国名コード) JP
別タイトル Effect of deposition conditions on the properties of IGZO thin film
出版年(W3CDTF) 2014-12-12
件名(キーワード) 粉末ターゲット
件名(キーワード) 焼結セラミックターゲット
件名(キーワード) ガスの流量比
件名(キーワード) シート抵抗
件名(キーワード) 光学特性
件名(キーワード) 組成比
件名(キーワード) Powder target
件名(キーワード) Ceramic target
件名(キーワード) Working gas
件名(キーワード) Sheet resistance
件名(キーワード) Optical characteristic
件名(キーワード) Composition ratio
NDLC ZN33
対象利用者 一般
資料の種別 記事・論文
掲載誌情報(URI形式) https://iss.ndl.go.jp/books/R100000002-I000000050569-00
掲載誌情報(ISSN形式) 09135685
掲載誌情報(ISSN-L形式) 09135685
掲載誌名 電子情報通信学会技術研究報告 = IEICE technical report : 信学技報
掲載巻 114
掲載号 360
掲載ページ 83-87
言語(ISO639-2形式) jpn : 日本語

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