記事・論文
| タイトル | Studying Resist Stochastics with the Multivariate Poisson Propagation Model |
|---|---|
| 著者 | Patrick Naulleau |
| 著者 | Christopher Anderson |
| 著者 | Weilun Chao 他 |
| シリーズ名 | Special Issue of Advanced Patterning Materials and Processes |
| 出版地（国名コード） | JP |
| 出版年(W3CDTF) | 2014 |
| 件名（キーワード） | photoresist |
| 件名（キーワード） | extreme ultraviolet |
| 件名（キーワード） | shot noise |
| NDLC | ZP48 |
| 対象利用者 | 一般 |
| 資料の種別 | 記事・論文 |
| 掲載誌情報（URI形式） | https://iss.ndl.go.jp/books/R100000002-I000000156586-00 |
| 掲載誌情報（ISSN形式） | 09149244 |
| 掲載誌情報（ISSN-L形式） | 09149244 |
| 掲載誌名 | Journal of photopolymer science and technology |
| 掲載巻 | 27 |
| 掲載号 | 6 |
| 掲載ページ | 747-750 |
| 言語（ISO639-2形式） | eng : English |
