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資料種別 記事・論文

超並列電子線描画用LSIの設計と評価

宮口 裕,室山 真徳,吉田 慎哉 他

詳細情報

タイトル 超並列電子線描画用LSIの設計と評価
著者 宮口 裕
著者 室山 真徳
著者 吉田 慎哉 他
出版地(国名コード) JP
別タイトル An LSI for Massive Parallel Electron Beam Lithography : its Design and Evaluation
出版年(W3CDTF) 2014-10
件名(キーワード) 電子線描画
件名(キーワード) 集積回路
件名(キーワード) 縮小露光
件名(キーワード) 収差補正
件名(キーワード) 素子分離
件名(キーワード) Electron beam lithography
件名(キーワード) Integrated circuit
件名(キーワード) Reduction projection
件名(キーワード) Aberration correction
件名(キーワード) Element isolation
NDLC ZN33
対象利用者 一般
資料の種別 記事・論文
掲載誌情報(URI形式) https://iss.ndl.go.jp/books/R100000002-I000010643656-00
掲載誌名 「センサ・マイクロマシンと応用システム」シンポジウム論文集 電気学会センサ・マイクロマシン部門 [編]
掲載巻 31
掲載ページ 1-6
言語(ISO639-2形式) jpn : 日本語

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