「2187-8579*」のOpenURLのAPI検索結果 | NDLサーチ

検索結果 26 件

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ミニマルファブ構想におけるウェハとCMP装置の開発

記録メディア記事

澁谷和孝, 中村由夫, 布施貴之他<YH247-1327>Planarization CMP & its applications16:2013p.44-47

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掲載誌（ISSN）2187-8579
掲載誌（ISSN-L）2187-8579

低CO2の実現に向けたパッドリサイクル技術

記録メディア記事

鈴木辰俊<YH247-1327>Planarization CMP & its applications16:2013p.33-35

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掲載誌（ISSN）2187-8579
掲載誌（ISSN-L）2187-8579

400mmシリコンウェハならびにSiCウェハのメーキングプロセスにおけるポリシング技術

記録メディア記事

阿部耕三<YH247-1327>Planarization CMP & its applications16:2013p.95-103

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掲載誌（ISSN）2187-8579
掲載誌（ISSN-L）2187-8579

Improving Yield with Real-time Monitoring of Large Particles in Undiluted CMP Slurry

記録メディア記事

Michael A. Fury<YH247-1327>Planarization CMP & its applications16:2013p.36-38

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掲載誌（ISSN）2187-8579
掲載誌（ISSN-L）2187-8579

ミニマルファブのためのプラズマ技術の開発

記録メディア記事

小木曽久人, 中野禅, 行村建他<YH247-1327>Planarization CMP & its applications16:2013p.48-50

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掲載誌（ISSN）2187-8579
掲載誌（ISSN-L）2187-8579

TRENDS IN SEMICONDUCTORS & THE IMPACT ON CMP CONSUMABLES

記録メディア記事

MIKE CORBETT<YH247-1327>Planarization CMP & its applications16:2013p.89-93

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掲載誌（ISSN）2187-8579
掲載誌（ISSN-L）2187-8579

超薄板ガラスとその応用

記録メディア記事

三和義治<YH247-1327>Planarization CMP & its applications16:2013p.68-73

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掲載誌（ISSN）2187-8579
掲載誌（ISSN-L）2187-8579

難加工材料の平坦化技術について

記録メディア記事

武田秀俊<YH247-1327>Planarization CMP & its applications16:2013p.81-84

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掲載誌（ISSN）2187-8579
掲載誌（ISSN-L）2187-8579

Planarization CMP & its applications

記録メディア雑誌電子資料

精密工学会「プラナリゼーションCMPとその応用技術専門委員会」2013-<YH247-1327>

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ISSN2187-8579
ISSN-L2187-8579

ファイバーによるパッドコンディショニング技術の開発とデバイスプロセスへの応用

記録メディア記事

新井雄太郎<YH247-1327>Planarization CMP & its applications16:2013p.112-117

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掲載誌（ISSN）2187-8579
掲載誌（ISSN-L）2187-8579

特別講演半導体産業の新アプリ革命に注目せよ : 医療産業・次世代環境車・エネルギーが出口

記録メディア記事

泉谷渉<YH247-1327>Planarization CMP & its applications16:2013p.9-13

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セリアCMPの計算科学シミュレーションと代替砥粒の提案

記録メディア記事

久保百司<YH247-1327>Planarization CMP & its applications16:2013p.51-56

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掲載誌（ISSN-L）2187-8579

特別講演 Activities of CMP UG Taiwan

記録メディア記事

C-C.Arthur Chen<YH247-1327>Planarization CMP & its applications16:2013p.5-8

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掲載誌（ISSN）2187-8579
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硬軟・有機無機・複合材料の研削研磨の現状

記録メディア記事

山本栄一<YH247-1327>Planarization CMP & its applications16:2013p.74-80

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ハードデイスク用ガラス基板量産加工技術の紹介

記録メディア記事

植田成生<YH247-1327>Planarization CMP & its applications16:2013p.62-67

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最先端電子デバイスを支える超精密ポリシング技術

記録メディア記事

木村景一<YH247-1327>Planarization CMP & its applications16:2013p.57-61

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掲載誌（ISSN-L）2187-8579

経営戦略としてのワーク・ライフバランス

記録メディア記事

松久晃士<YH247-1327>Planarization CMP & its applications16:2013p.118-122

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Development of Next Generation Post Copper CMP Cleaners

記録メディア記事

Akira Kuroda, Atsushi Otake, Paul Bernatis<YH247-1327>Planarization CMP & its applications16:2013p.23-27

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新しい概念によるダイラタンシー・パッドならびにスマート加工/CMPシステムの開発とその難加工性基板への応用

記録メディア記事

土肥俊郎, 瀬下清, 山崎努<YH247-1327>Planarization CMP & its applications16:2013p.104-111

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先端デバイス向け研磨パッド

記録メディア記事

松村進一<YH247-1327>Planarization CMP & its applications16:2013p.28-32

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