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検索結果 93 件

High-k、Metal Gate用成膜装置「C-7100GT」の開発--スパッタ成膜法を用いたゲートプロセスへの取り組み

High-k、Metal Gate用成膜装置「C-7100GT」の開発--スパッタ成膜法を用いたゲートプロセスへの取り組み
紙記事
小須田 求, 山田 直樹, 松井 尚子 他<Z14-B382>アネルバ技報11 2005p.20～24
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  • 掲載誌（ISSN）1342-2979
  • 掲載誌（ISSN-L）1342-2979

マイクロマシン技術を用いた静電容量型真空計

マイクロマシン技術を用いた静電容量型真空計
紙記事
宮下 治三, 北村 恭志<Z14-B382>アネルバ技報11 2005p.37～41
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  • 掲載誌（ISSN）1342-2979
  • 掲載誌（ISSN-L）1342-2979

特集 半導体製造工程を変革する新プロセス技術 最新トピックス(3)半導体ウェハの極薄化技術 極薄ウェハのメタライゼーション

特集 半導体製造工程を変革する新プロセス技術 最新トピックス(3)半導体ウェハの極薄化技術 極薄ウェハのメタライゼーション
紙記事
山口 述夫<Z14-B382>アネルバ技報11 2005p.58～60
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  • 掲載誌（ISSN）1342-2979
  • 掲載誌（ISSN-L）1342-2979

PDPと寿命

PDPと寿命
紙記事
御子柴 茂生<Z14-B382>アネルバ技報11 2005p.5～9
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  • 掲載誌（ISSN）1342-2979
  • 掲載誌（ISSN-L）1342-2979

CO/NH3、CH3OHを用いたトンネル磁気抵抗素子のドライエッチング技術

CO/NH3、CH3OHを用いたトンネル磁気抵抗素子のドライエッチング技術
紙記事
長田 智明, 土居 美保子, 坂本 清尚 他<Z14-B382>アネルバ技報11 2005p.25～28
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  • 掲載誌（ISSN）1342-2979
  • 掲載誌（ISSN-L）1342-2979

製品紹介 C-3802 中小型パネル向け低コスト多品種対応型バッチ式液晶注入装置

製品紹介 C-3802 中小型パネル向け低コスト多品種対応型バッチ式液晶注入装置
紙記事
土井 嘉幸, 佐々木 直記<Z14-B382>アネルバ技報11 2005p.47～49
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  • 掲載誌（ISSN）1342-2979
  • 掲載誌（ISSN-L）1342-2979

Novel chemical vapor deposition of spherically oxidized nanocrystaline silicon(nc-Si)quantum dot multilayer

Novel chemical vapor deposition of spherically oxidized nanocrystaline silicon(nc-Si)quantum dot multilayer
紙記事
熊谷 晃, 沼沢 陽一郎, 村尾 幸信 他<Z14-B382>アネルバ技報11 2005p.67～71
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  • 掲載誌（ISSN）1342-2979
  • 掲載誌（ISSN-L）1342-2979

化合物半導体のドライエッチング

化合物半導体のドライエッチング
紙記事
平柳 裕久, 井出 陽介, 土井 浩志<Z14-B382>アネルバ技報11 2005p.29～33
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  • 掲載誌（ISSN）1342-2979
  • 掲載誌（ISSN-L）1342-2979

60MHzの高周波を用いたマグネトロンスパッタにおけるプラズマ及び成膜特性

60MHzの高周波を用いたマグネトロンスパッタにおけるプラズマ及び成膜特性
紙記事
佐藤 誠, 長浜 華子, 林 利彦 他<Z14-B382>アネルバ技報11 2005p.61～66
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  • 掲載誌（ISSN）1342-2979
  • 掲載誌（ISSN-L）1342-2979

SiCデバイス用活性化アニール装置EBASの開発と窒素注入4H-SiCサンプルのアニール特性の評価

SiCデバイス用活性化アニール装置EBASの開発と窒素注入4H-SiCサンプルのアニール特性の評価
紙記事
柴垣 真果, 榑松 保美, 沼尻 憲二 他<Z14-B382>アネルバ技報11 2005p.42～46
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  • 掲載誌（ISSN）1342-2979
  • 掲載誌（ISSN-L）1342-2979

LCD向け大型スパッタリング装置の開発

LCD向け大型スパッタリング装置の開発
紙記事
青沼 大介, 杉山 敏明<Z14-B382>アネルバ技報11 2005p.10～14
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  • 掲載誌（ISSN）1342-2979
  • 掲載誌（ISSN-L）1342-2979

プラズマガンを用いたPDP用MgO薄膜形成装置

プラズマガンを用いたPDP用MgO薄膜形成装置
紙記事
中村 昇, 中河原 均<Z14-B382>アネルバ技報11 2005p.15～19
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  • 掲載誌（ISSN）1342-2979
  • 掲載誌（ISSN-L）1342-2979

IAMS(イオン付着質量分析法)の環境測定への応用

IAMS(イオン付着質量分析法)の環境測定への応用
紙記事
丸山 はる美, 井上 雅子, 平野 芳樹 他<Z14-B382>アネルバ技報11 2005p.34～36
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  • 掲載誌（ISSN）1342-2979
  • 掲載誌（ISSN-L）1342-2979

アネルバ技報

アネルバ技報
紙雑誌
アネルバ1996-2005<Z14-B382>
国立国会図書館
  • ISSN1342-2979
  • ISSN-L1342-2979
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MRAM量産用新規PVD装置C-7100

MRAM量産用新規PVD装置C-7100
紙記事
角田 隆明, 小須田 求, 恒川 孝二 他<Z14-B382>アネルバ技報10 2004p.13～19
国立国会図書館全国の図書館
  • 掲載誌（ISSN）1342-2979
  • 掲載誌（ISSN-L）1342-2979

IAMS(イオン付着質量分析法)の各種有機分析への応用

IAMS(イオン付着質量分析法)の各種有機分析への応用
紙記事
丸山 はる美, 井上 雅子, 塩川 善郎<Z14-B382>アネルバ技報10 2004p.38～42
国立国会図書館
  • 掲載誌（ISSN）1342-2979
  • 掲載誌（ISSN-L）1342-2979

IAMS(イオン付着質量分析法)の各種有機分析への応用

IAMS(イオン付着質量分析法)の各種有機分析への応用
紙記事
丸山 はる美, 井上 雅子, 塩川 善郎<Z14-B382>アネルバ技報10 (訂正版) 2004p.38～42
国立国会図書館全国の図書館
  • 掲載誌（ISSN）1342-2979
  • 掲載誌（ISSN-L）1342-2979

金属スピントロニクスの展開

金属スピントロニクスの展開
紙記事
鈴木 義茂, 湯浅 新治, 長浜 太郎 他<Z14-B382>アネルバ技報10 2004p.5～12
国立国会図書館
  • 掲載誌（ISSN）1342-2979
  • 掲載誌（ISSN-L）1342-2979

PCM-PVD Moduleのφ300mmへの応用

PCM-PVD Moduleのφ300mmへの応用
紙記事
藤井 隆博<Z14-B382>アネルバ技報10 2004p.30～33
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  • 掲載誌（ISSN）1342-2979
  • 掲載誌（ISSN-L）1342-2979

MRAM量産用新規PVD装置C-7100

MRAM量産用新規PVD装置C-7100
紙記事
角田 隆明, 小須田 求, 恒川 孝二 他<Z14-B382>アネルバ技報10 (訂正版) 2004p.27～33
国立国会図書館
  • 掲載誌（ISSN）1342-2979
  • 掲載誌（ISSN-L）1342-2979