博士論文

High rate deposition of highly stable a-Si:H films by cluster-controlled plasma chemical vapor deposition

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High rate deposition of highly stable a-Si:H films by cluster-controlled plasma chemical vapor deposition

国立国会図書館請求記号
UT51-2010-P815
国立国会図書館書誌ID
000011117924
資料種別
博士論文
著者
William Makoto Nakamura [著]
出版者
[William Makoto Nakamura]
出版年
[2010]
資料形態
ページ数・大きさ等
1冊
授与大学名・学位
九州大学,博士 (学術)
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書誌情報

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資料種別
博士論文
著者・編者
William Makoto Nakamura [著]
著者標目
中村ウィリアム誠 ナカムラ ウィリアム マコト
出版年月日等
[2010]
出版年(W3CDTF)
2010
数量
1冊
並列タイトル等
クラスタ制御プラズマ化学堆積による高安定a-Si:H薄膜の高速堆積 クラスタ セイギョ プラズマ カガク タイセキ ニ ヨル コウアンテイ a-Si:H ハクマク ノ コウソク タイセキ
授与機関名
九州大学