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資料種別 マイクロ資料

Automatic determination of the interstitial oxygen content of silicon wafers polished on both sides / Warren K. Gladden ... [et al.]

詳細情報

タイトル Automatic determination of the interstitial oxygen content of silicon wafers polished on both sides / Warren K. Gladden ... [et al.]
シリーズ名 Semiconductor measurement technology
シリーズ名 NIST special publication ; 400-81
出版地(国名コード) US
出版年 1988
大きさ、容量等 microfiche ; 11 × 15 cm
注記 Distributed to depository libraries in microfiche
注記 G.P.O. sales statement incorrect in publication
注記 "November 1988."
注記 Physical description for original version: iii, 66 p. : 28 cm
注記 Includes bibliographical references
注記 原資料の出版事項: Gaithersburg, MD ; [Springfield, VA : U.S. Dept. of Commerce, National Institute of Standards and Technology : Order from National Technical Information Service, 1988]
注記 SUPTDOC番号: C 13.10: 400-81
注記 GPO管理番号: 0247 (MF)
WorldCatへのリンク 20378619
件名(キーワード) Semiconductors -- Measurement -- Data processing
件名(キーワード) Silicon -- Spectra
件名(キーワード) Infrared spectroscopy -- Computer programs
資料の種別 図書
資料の種別 マイクロ資料
言語(ISO639-2形式) eng : English

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