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光励起プロセスの基礎 : プロセスの低温・無損傷化を実現

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光励起プロセスの基礎 : プロセスの低温・無損傷化を実現

国立国会図書館請求記号
ND354-E60
国立国会図書館書誌ID
000002340984
資料種別
図書
著者
高橋清 [ほか]編著
出版者
工業調査会
出版年
1994.3
資料形態
ページ数・大きさ等
266p ; 21cm
NDC
549
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書誌情報

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資料種別
図書
ISBN
4-7693-1122-2
タイトルよみ
ヒカリ レイキ プロセス ノ キソ
著者・編者
高橋清 [ほか]編著
著者標目
高橋, 清, 1934- タカハシ, キヨシ, 1934- ( 00077797 )典拠
出版年月日等
1994.3
出版年(W3CDTF)
1994
数量
266p