リモートプラズマCVD法による有機シリコン原料を用いたシリコン系薄膜形成過程の研究
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国立国会図書館デジタルコレクション
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目次
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p3
概要
p1
第1章 序論
p1
1.1 化学気相堆積法CVDの背景
p1
1.2 リモートプラズマCVDの背景
p5
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書誌情報
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- 資料種別
- 博士論文
- タイトルよみ
- リモート プラズマ CVDホウ ニ ヨル ユウキ シリコン ゲンリョウ オ モチイタ シリコンケイ ハクマク ケイセイ カテイ ノ ケンキュウ
- 著者・編者
- 徐應瑜 [著]
- 著者標目
- 徐, 應瑜 ジョ, インユ
- 出版事項
- 出版年月日等
- 2001
- 出版年（W3CDTF）
- 2001
- 数量
- 1冊
- 授与機関名
- 静岡大学