Growth and characterization of polycrystalline silicon films deposited by plasma enhanced chemical vapor deposition at low temperatures
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国立国会図書館デジタルコレクション
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目次
Abstract
p1
Contents
p5
Chapter1.Introduction
p1
1.1 Overview
p1
1.2 Motivation of the present research project
p2
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書誌情報
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- 資料種別
- 博士論文
- 著者・編者
- Jayatissa, Ahalapitiya Hewage [著]
- 著者標目
- Jayatissa, Ahalapitiya Hewage ジャヤテッサ, アハラピテヤ ヘワーゲ
- 並列タイトル等
- プラズマ化学気相堆積による低温堆積多結晶シリコン薄膜の成長と評価 プラズマ カガク キソウ タイセキ ニ ヨル テイオン タイセキ タケッショウ シリコン ハクマク ノ セイチョウ ト ヒョウカ
- 授与機関名
- 静岡大学
- 授与年月日
- 平成7年12月22日
- 授与年月日（W3CDTF）
- 1995
- 報告番号
- 甲第124号
- 学位
- 博士 (工学)