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資料種別 記事・論文

Sensitization distance and acid generation efficiency in a model system of chemically amplified electron beam resist with methacrylate backbone polymer

Takahiro Kozawa,Seiichi Tagawa,Toshiyuki Kai 他

詳細情報

タイトル Sensitization distance and acid generation efficiency in a model system of chemically amplified electron beam resist with methacrylate backbone polymer
著者 Takahiro Kozawa
著者 Seiichi Tagawa
著者 Toshiyuki Kai 他
出版年 2007
件名(キーワード) anion distribution
件名(キーワード) sensitization distance
件名(キーワード) polymethylmethacrylate
件名(キーワード) line edge roughness
件名(キーワード) chemically amplified resist
対象利用者 一般
資料の種別 記事・論文
掲載誌情報(ISSN形式) 09149244
掲載誌情報(ISSNL形式) 09149244
掲載誌情報(URI形式) http://iss.ndl.go.jp/books/R100000002-I000000156586-00
掲載誌名 Journal of photopolymer science and technology
掲載巻 20
掲載号 4
掲載ページ 577~583
言語(ISO639-2形式) eng : English

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