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資料種別 記事・論文

Exploring acidic functionalities in the design and development of high performance l93nm photoresist polymers

P. R. Varanasi,W. Li,M. Khojasteh 他

詳細情報

タイトル Exploring acidic functionalities in the design and development of high performance l93nm photoresist polymers
著者 P. R. Varanasi
著者 W. Li
著者 M. Khojasteh 他
出版年 2007
件名(キーワード) l93nm photoresist
件名(キーワード) acidic functionality
件名(キーワード) hexafluroalcohol
件名(キーワード) fluorosulfonamide
件名(キーワード) naphthol
件名(キーワード) dissolution property
件名(キーワード) l93nm lithography
件名(キーワード) immersion lithography
対象利用者 一般
資料の種別 記事・論文
掲載誌情報(ISSN形式) 09149244
掲載誌情報(ISSNL形式) 09149244
掲載誌情報(URI形式) http://iss.ndl.go.jp/books/R100000002-I000000156586-00
掲載誌名 Journal of photopolymer science and technology
掲載巻 20
掲載号 4
掲載ページ 481~491
言語(ISO639-2形式) eng : English

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