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資料種別 記事・論文

Spin-on trilayer approaches to high NA 193nm lithography

D. J. Abdallah,D. Mckenzie,A. Timko 他

詳細情報

タイトル Spin-on trilayer approaches to high NA 193nm lithography
著者 D. J. Abdallah
著者 D. Mckenzie
著者 A. Timko 他
出版年 2007
件名(キーワード) ArF
件名(キーワード) high-NA
件名(キーワード) bottom anti-reflective coatings
件名(キーワード) trilayer
件名(キーワード) Si-BARC
件名(キーワード) Carbon underlayers
件名(キーワード) spin-on hard mask
対象利用者 一般
資料の種別 記事・論文
掲載誌情報(ISSN形式) 09149244
掲載誌情報(ISSNL形式) 09149244
掲載誌情報(URI形式) http://iss.ndl.go.jp/books/R100000002-I000000156586-00
掲載誌名 Journal of photopolymer science and technology
掲載巻 20
掲載号 5
掲載ページ 697~705
言語(ISO639-2形式) eng : English

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