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資料種別 記事・論文

Novel photoacid generators for ArF dry and immersion lithography: application-related properties

Toshikage Asakura,Hitoshi Yamato,Yuichi Nishimae 他

詳細情報

タイトル Novel photoacid generators for ArF dry and immersion lithography: application-related properties
著者 Toshikage Asakura
著者 Hitoshi Yamato
著者 Yuichi Nishimae 他
出版年 2007
件名(キーワード) non-ionic
件名(キーワード) photoacid generator
件名(キーワード) ArF
件名(キーワード) strong acid
件名(キーワード) chemically amplified resist
対象利用者 一般
資料の種別 記事・論文
掲載誌情報(ISSN形式) 09149244
掲載誌情報(ISSNL形式) 09149244
掲載誌情報(URI形式) http://iss.ndl.go.jp/books/R100000002-I000000156586-00
掲載誌名 Journal of photopolymer science and technology
掲載巻 20
掲載号 3
掲載ページ 465~471
言語(ISO639-2形式) eng : English

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