サイトメニューここからこのページの先頭です

ショートカットキーの説明を開始します。画面遷移や機能実行は、説明にあるショートカットキーを同時に押した後、Enterキーを押してください。ショートカットキーの説明を聞くには、Alt+0。トップ画面の表示には、Alt+1。ログインを行うには、Alt+2。簡易検索画面の表示には、Alt+3。詳細検索画面の表示には、Alt+4。障害者向け資料検索画面の表示には、Alt+5。検索結果の並び替えを行うには、Alt+6。国立国会図書館ホームページの表示には、Alt+7。検索結果の絞り込みを行うには、Alt+8。以上でショートカットキーの説明を終わります。

ナビゲーションここから

ナビゲーションここまで

本文ここから

資料種別 記事・論文

Carborane-based photoacid generators: new superacids for 193nm and EUV lithography

Ralph R. Dammel,M. Dalil Rahman,Douglas McKenzie 他

詳細情報

タイトル Carborane-based photoacid generators: new superacids for 193nm and EUV lithography
著者 Ralph R. Dammel
著者 M. Dalil Rahman
著者 Douglas McKenzie 他
出版年 2007
件名(キーワード) carbornen
件名(キーワード) photoacid generators
件名(キーワード) superacids
件名(キーワード) EUV lithography
件名(キーワード) 193nm lithography
件名(キーワード) perfluoroalkane sulfonate
件名(キーワード) mesitylen oxide
対象利用者 一般
資料の種別 記事・論文
掲載誌情報(ISSN形式) 09149244
掲載誌情報(ISSNL形式) 09149244
掲載誌情報(URI形式) http://iss.ndl.go.jp/books/R100000002-I000000156586-00
掲載誌名 Journal of photopolymer science and technology
掲載巻 20
掲載号 5
掲載ページ 627~635
言語(ISO639-2形式) eng : English

本文ここまで

Copyright © 2012 National Diet Library. All Rights Reserved.

フッター ここまで