サイトメニューここからこのページの先頭です

ショートカットキーの説明を開始します。画面遷移や機能実行は、説明にあるショートカットキーを同時に押した後、Enterキーを押してください。ショートカットキーの説明を聞くには、Alt+0。トップ画面の表示には、Alt+1。ログインを行うには、Alt+2。簡易検索画面の表示には、Alt+3。詳細検索画面の表示には、Alt+4。障害者向け資料検索画面の表示には、Alt+5。検索結果の並び替えを行うには、Alt+6。国立国会図書館ホームページの表示には、Alt+7。検索結果の絞り込みを行うには、Alt+8。以上でショートカットキーの説明を終わります。

ナビゲーションここから

ナビゲーションここまで

本文ここから

資料種別 記事・論文

次世代半導体製造プロセスにおける金属不純物汚染制御--新規材料元素の拡散挙動予測

嶋崎 綾子,桜井 宏紀,吉村 玲子 他

詳細情報

タイトル 次世代半導体製造プロセスにおける金属不純物汚染制御--新規材料元素の拡散挙動予測
著者 嶋崎 綾子
著者 桜井 宏紀
著者 吉村 玲子 他
出版年 2007-08
別タイトル Contamination control of metallic impurities in ULSI manufacturing process: diffusion behavior of new material elements
件名(キーワード) 新規材料
件名(キーワード) クロスコンタミネーション
件名(キーワード) 金属不純物汚染
件名(キーワード) 拡散
件名(キーワード) 理論的評価
対象利用者 一般
資料の種別 記事・論文
掲載誌情報(ISSN形式) 13452827
掲載誌情報(ISSNL形式) 13452827
掲載誌情報(URI形式) http://iss.ndl.go.jp/books/R100000002-I000000108168-00
掲載誌名 電子情報通信学会論文誌. C, エレクトロニクス / 電子情報通信学会 編
掲載巻 90
掲載号 8
掲載通号 476
掲載ページ 600~607
言語(ISO639-2形式) jpn : 日本語

本文ここまで

Copyright © 2012 National Diet Library. All Rights Reserved.

フッター ここまで