サイトメニューここからこのページの先頭です

ショートカットキーの説明を開始します。画面遷移や機能実行は、説明にあるショートカットキーを同時に押した後、Enterキーを押してください。ショートカットキーの説明を聞くには、Alt+0。トップ画面の表示には、Alt+1。ログインを行うには、Alt+2。簡易検索画面の表示には、Alt+3。詳細検索画面の表示には、Alt+4。障害者向け資料検索画面の表示には、Alt+5。検索結果の並び替えを行うには、Alt+6。国立国会図書館ホームページの表示には、Alt+7。検索結果の絞り込みを行うには、Alt+8。以上でショートカットキーの説明を終わります。

ナビゲーションここから

ナビゲーションここまで

本文ここから

資料種別 記事・論文

TaN/Hf系high-k/Siゲートスタック構造の電気特性

杉本 陽平,山本 圭介,梶原 誠生 他

詳細情報

タイトル TaN/Hf系high-k/Siゲートスタック構造の電気特性
著者 杉本 陽平
著者 山本 圭介
著者 梶原 誠生 他
出版年 2007-03
別タイトル Electrical properties of TaN/Hf based-high-k/Si gate stack structure
件名(キーワード) Metal gate
件名(キーワード) TaN
件名(キーワード) interfacial layer
件名(キーワード) Fermi level pinning
対象利用者 一般
資料の種別 記事・論文
掲載誌情報(ISSN形式) 13467883
掲載誌情報(ISSNL形式) 13467883
掲載誌情報(URI形式) http://iss.ndl.go.jp/books/R100000002-I000000395900-00
掲載誌名 九州大学大学院総合理工学報告 / 九州大学大学院総合理工学府 編
掲載巻 28
掲載号 4
掲載ページ 371~378
言語(ISO639-2形式) jpn : 日本語

本文ここまで

Copyright © 2012 National Diet Library. All Rights Reserved.

フッター ここまで