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極薄バリア層自己形成...

極薄バリア層自己形成技術--冶金学的なアプローチ (特集 これだけは知っておきたい最新の配線・実装材料技術)

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極薄バリア層自己形成技術--冶金学的なアプローチ

(特集 これだけは知っておきたい最新の配線・実装材料技術)

国立国会図書館請求記号
Z17-289
国立国会図書館書誌ID
8903527
資料種別
記事
著者
伊藤 和博ほか
出版者
東京 : アグネ技術センター
出版年
2007-08
資料形態
掲載誌名
金属 77(8) (通号 1051) 2007.8
掲載ページ
p.854~859
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書誌情報

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資料種別
記事
著者・編者
伊藤 和博
着本 亨
村上 正紀
並列タイトル等
Self-formation of Ti-rich barrier layers in Cu(Ti)alloy films
タイトル(掲載誌)
金属
巻号年月日等(掲載誌)
77(8) (通号 1051) 2007.8
掲載巻
77
掲載号
8