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資料種別 記事・論文

再録 反応性スパッタリング法により形成したAl-Cr-N系皮膜の特性におよぼすN2ガス分圧の影響

井手 幸夫,中村 聡志,仁野 章弘 他

詳細情報

タイトル 再録 反応性スパッタリング法により形成したAl-Cr-N系皮膜の特性におよぼすN2ガス分圧の影響
著者 井手 幸夫
著者 中村 聡志
著者 仁野 章弘 他
出版年 2006-07
別タイトル Effects of nitrogen partial pressure on the properties of Al-Cr-N films prepared by DC reactive sputtering
件名(キーワード) Sputtering
件名(キーワード) Al-Cr-N
件名(キーワード) Nitrogen Partial Pressure
対象利用者 一般
資料の種別 記事・論文
掲載誌情報(ISSN形式) 1345210X
掲載誌情報(ISSNL形式) 1345210X
掲載誌情報(URI形式) http://iss.ndl.go.jp/books/R100000002-I000000107463-00
掲載誌名 山口県産業技術センター研究報告 / 山口県産業技術センター 編
掲載号 18
掲載ページ 33~37
言語(ISO639-2形式) jpn : 日本語

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