サイトメニューここからこのページの先頭です

ショートカットキーの説明を開始します。画面遷移や機能実行は、説明にあるショートカットキーを同時に押した後、Enterキーを押してください。ショートカットキーの説明を聞くには、Alt+0。トップ画面の表示には、Alt+1。ログインを行うには、Alt+2。簡易検索画面の表示には、Alt+3。詳細検索画面の表示には、Alt+4。障害者向け資料検索画面の表示には、Alt+5。検索結果の並び替えを行うには、Alt+6。国立国会図書館ホームページの表示には、Alt+7。検索結果の絞り込みを行うには、Alt+8。以上でショートカットキーの説明を終わります。

ナビゲーションここから

ナビゲーションここまで

本文ここから

資料種別 記事・論文

基板バイアススパッタ法によるITO薄膜の検討(2)

梅津 岳,中田 悠介,清水 英彦 他

詳細情報

タイトル 基板バイアススパッタ法によるITO薄膜の検討(2)
著者 梅津 岳
著者 中田 悠介
著者 清水 英彦 他
シリーズ名 電子部品・材料
出版年 2007-08
別タイトル Examination of ITO thin films deposited by substrate bias sputtering (2)
件名(キーワード) ITO薄膜
件名(キーワード) RF-DC結合型スパッタ法
件名(キーワード) 基板バイアススパッタ法
件名(キーワード) 低温
件名(キーワード) ITO thin film
件名(キーワード) RF-DC coupled magnetron sputtering method
件名(キーワード) substrate bias sputtering
件名(キーワード) low temperature
対象利用者 一般
資料の種別 記事・論文
掲載誌情報(ISSN形式) 09135685
掲載誌情報(ISSNL形式) 09135685
掲載誌情報(URI形式) http://iss.ndl.go.jp/books/R100000002-I000000050569-00
掲載誌名 電子情報通信学会技術研究報告 : 信学技報
掲載巻 107
掲載号 178
掲載ページ 33~38
言語(ISO639-2形式) jpn : 日本語

本文ここまで

Copyright © 2012 National Diet Library. All Rights Reserved.

フッター ここまで