サイトメニューここからこのページの先頭です

ショートカットキーの説明を開始します。画面遷移や機能実行は、説明にあるショートカットキーを同時に押した後、Enterキーを押してください。ショートカットキーの説明を聞くには、Alt+0。トップ画面の表示には、Alt+1。ログインを行うには、Alt+2。簡易検索画面の表示には、Alt+3。詳細検索画面の表示には、Alt+4。障害者向け資料検索画面の表示には、Alt+5。検索結果の並び替えを行うには、Alt+6。国立国会図書館ホームページの表示には、Alt+7。検索結果の絞り込みを行うには、Alt+8。以上でショートカットキーの説明を終わります。

ナビゲーションここから

ナビゲーションここまで

本文ここから

資料種別 記事・論文

トップダウンSEM像を用いたレジストパタン膜厚管理

長友 渉,宮本 敦,宍戸 千絵 他

詳細情報

タイトル トップダウンSEM像を用いたレジストパタン膜厚管理
著者 長友 渉
著者 宮本 敦
著者 宍戸 千絵 他
出版年 2007-07
別タイトル Monitoring of photoresist pattern thickness using top-down SEM image
件名(キーワード) semiconductor process monitoring
件名(キーワード) CD-SEM
件名(キーワード) photoresist thickness
件名(キーワード) lithography process parameters
件名(キーワード) top-down SEM image
対象利用者 一般
資料の種別 記事・論文
掲載誌情報(ISSN形式) 09120289
掲載誌情報(ISSN形式) 13488716
掲載誌情報(ISSNL形式) 09120289
掲載誌情報(ISSNL形式) 13488716
掲載誌情報(URI形式) http://iss.ndl.go.jp/books/R100000002-I000000043699-00
掲載誌名 精密工学会誌 / 会誌編集委員会 編
掲載巻 73
掲載号 7
掲載通号 871
掲載ページ 808~812
言語(ISO639-2形式) jpn : 日本語

本文ここまで

Copyright © 2012 National Diet Library. All Rights Reserved.

フッター ここまで