サイトメニューここからこのページの先頭です

ショートカットキーの説明を開始します。画面遷移や機能実行は、説明にあるショートカットキーを同時に押した後、Enterキーを押してください。ショートカットキーの説明を聞くには、Alt+0。トップ画面の表示には、Alt+1。ログインを行うには、Alt+2。簡易検索画面の表示には、Alt+3。詳細検索画面の表示には、Alt+4。障害者向け資料検索画面の表示には、Alt+5。検索結果の並び替えを行うには、Alt+6。国立国会図書館ホームページの表示には、Alt+7。検索結果の絞り込みを行うには、Alt+8。以上でショートカットキーの説明を終わります。

ナビゲーションここから

ナビゲーションここまで

本文ここから

資料種別 記事・論文

大口径ウエハ平坦度測定技術

秋山 哲,坂井 基志

詳細情報

タイトル 大口径ウエハ平坦度測定技術
著者 秋山 哲
著者 坂井 基志
シリーズ名 特集 半導体デバイスの平坦化技術
出版年 2007-07
別タイトル Large wafer topography measurement
件名(キーワード) semiconductor
件名(キーワード) silicon
件名(キーワード) wafer
件名(キーワード) flatness
件名(キーワード) nanotopography
件名(キーワード) edge Roll-off
件名(キーワード) optical measurement
対象利用者 一般
資料の種別 記事・論文
掲載誌情報(ISSN形式) 09120289
掲載誌情報(ISSN形式) 13488716
掲載誌情報(ISSNL形式) 09120289
掲載誌情報(ISSNL形式) 13488716
掲載誌情報(URI形式) http://iss.ndl.go.jp/books/R100000002-I000000043699-00
掲載誌名 精密工学会誌 / 会誌編集委員会 編
掲載巻 73
掲載号 7
掲載通号 871
掲載ページ 768~771
言語(ISO639-2形式) jpn : 日本語

本文ここまで

Copyright © 2012 National Diet Library. All Rights Reserved.

フッター ここまで