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資料種別 記事・論文

ArF液浸用レジストのC60イオンビームを用いたXPS深さ方向状態解析

山本 雄一,代田 直子,山本 清

詳細情報

タイトル ArF液浸用レジストのC60イオンビームを用いたXPS深さ方向状態解析
著者 山本 雄一
著者 代田 直子
著者 山本 清
シリーズ名 第26回表面科学講演大会論文特集(1)
出版年 2007-07
別タイトル XPS depth profile analysis of ArF immersion resists by using C60 ion beam
件名(キーワード) ArF immersion resist
件名(キーワード) XPS depth profile
件名(キーワード) C60 ion beam
件名(キーワード) angle resolved XPS
件名(キーワード) gradient shaved surface
対象利用者 一般
資料の種別 記事・論文
掲載誌情報(ISSN形式) 03885321
掲載誌情報(ISSNL形式) 03885321
掲載誌情報(URI形式) http://iss.ndl.go.jp/books/R100000002-I000000033734-00
掲載誌名 表面科学 / 日本表面科学会 編
掲載巻 28
掲載号 7
掲載ページ 348~353
言語(ISO639-2形式) jpn : 日本語

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