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資料種別 記事・論文

Stress Release Behaviors of Amorphous SiC/Si Structure during Annealing

Yong Sun,Kyoichiro Nakatsugi,Tatsuro Miyasato

詳細情報

タイトル Stress Release Behaviors of Amorphous SiC/Si Structure during Annealing
著者 Yong Sun
著者 Kyoichiro Nakatsugi
著者 Tatsuro Miyasato
出版年 2001-11
件名(キーワード) silicon carbide film
件名(キーワード) SiC/Si structure
件名(キーワード) shrinkage
件名(キーワード) evaporation
件名(キーワード) stress
件名(キーワード) loss
件名(キーワード) electric current heating
件名(キーワード) residual oxygen
件名(キーワード) crystal orientation
件名(キーワード) bond density
対象利用者 一般
資料の種別 記事・論文
掲載誌情報(ISSN形式) 00214922
掲載誌情報(ISSNL形式) 00214922
掲載誌情報(URI形式) http://iss.ndl.go.jp/books/R100000002-I000000159719-00
掲載誌名 Japanese journal of applied physics. Part. 1, Regular papers, brief communications & review papers : JJAP
掲載巻 40
掲載号 11
掲載通号 548
掲載ページ 6290~6295
言語(ISO639-2形式) eng : English

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