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資料種別 記事・論文

Oxidative Curing of Hydrogen Silsesquioxane Resin Films by Electron Beam Irradiation without Additional Heatings and Characterization of the Cured Films

Takashi Nakamura,Motoshi Sasaki,Akihiko Kobayashi 他

詳細情報

タイトル Oxidative Curing of Hydrogen Silsesquioxane Resin Films by Electron Beam Irradiation without Additional Heatings and Characterization of the Cured Films
著者 Takashi Nakamura
著者 Motoshi Sasaki
著者 Akihiko Kobayashi 他
出版年 2001-11
件名(キーワード) hydrogen silsesquioxane
件名(キーワード) HSQ
件名(キーワード) electron beam
件名(キーワード) silicon oxide
件名(キーワード) interlayer dielectric
件名(キーワード) SiH group
件名(キーワード) crack-free thickness
件名(キーワード) refractive index
件名(キーワード) RI
件名(キーワード) densification
件名(キーワード) stress
件名(キーワード) thermal stability
対象利用者 一般
資料の種別 記事・論文
掲載誌情報(ISSN形式) 00214922
掲載誌情報(ISSNL形式) 00214922
掲載誌情報(URI形式) http://iss.ndl.go.jp/books/R100000002-I000000159719-00
掲載誌名 Japanese journal of applied physics. Part. 1, Regular papers, brief communications & review papers : JJAP
掲載巻 40
掲載号 11
掲載通号 548
掲載ページ 6187~6191
言語(ISO639-2形式) eng : English

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