サイトメニューここからこのページの先頭です

ショートカットキーの説明を開始します。画面遷移や機能実行は、説明にあるショートカットキーを同時に押した後、Enterキーを押してください。ショートカットキーの説明を聞くには、Alt+0。トップ画面の表示には、Alt+1。ログインを行うには、Alt+2。簡易検索画面の表示には、Alt+3。詳細検索画面の表示には、Alt+4。障害者向け資料検索画面の表示には、Alt+5。検索結果の並び替えを行うには、Alt+6。国立国会図書館ホームページの表示には、Alt+7。検索結果の絞り込みを行うには、Alt+8。以上でショートカットキーの説明を終わります。

ナビゲーションここから

ナビゲーションここまで

本文ここから

資料種別 記事・論文

光音響法によるSiイオンを注入したシリコン基板の熱伝導率とアニール特性の研究

高畠 信也,小林 武,庄 善之 他

詳細情報

タイトル 光音響法によるSiイオンを注入したシリコン基板の熱伝導率とアニール特性の研究
著者 高畠 信也
著者 小林 武
著者 庄 善之 他
出版年 2001-11
件名(キーワード) PAS
件名(キーワード) 光音響
件名(キーワード) 薄膜
件名(キーワード) イオン注入
対象利用者 一般
資料の種別 記事・論文
掲載誌情報(ISSN形式) 13452827
掲載誌情報(ISSNL形式) 13452827
掲載誌情報(URI形式) http://iss.ndl.go.jp/books/R100000002-I000000108168-00
掲載誌名 電子情報通信学会論文誌. C, エレクトロニクス / 電子情報通信学会 編
掲載巻 84
掲載号 11
掲載通号 407
掲載ページ 1100~1105
言語(ISO639-2形式) jpn : 日本語

本文ここまで

Copyright © 2012 National Diet Library. All Rights Reserved.

フッター ここまで