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資料種別 記事・論文

Reaction of Copper Oxide and β-Diketone for In situ Cleaning of Metal Copper in a Copper Chemical Vapor Deposition Reactor

Atsushi Sekiguchi,Akiko Kobayashi,Tomoaki Koide 他

詳細情報

タイトル Reaction of Copper Oxide and β-Diketone for In situ Cleaning of Metal Copper in a Copper Chemical Vapor Deposition Reactor
著者 Atsushi Sekiguchi
著者 Akiko Kobayashi
著者 Tomoaki Koide 他
出版年 2000-11
件名(キーワード) Cu-CVD
件名(キーワード) 1,1,1,5,5,5-hexafluoro-2,4-pentanedione
件名(キーワード) bis-hexafluoroacetylacetonate copper
件名(キーワード) thermogravimetry
件名(キーワード) Arrhenius plot
件名(キーワード) weight ratio etching rate
件名(キーワード) vaporization rate
対象利用者 一般
資料の種別 記事・論文
掲載誌情報(ISSN形式) 00214922
掲載誌情報(ISSNL形式) 00214922
掲載誌情報(URI形式) http://iss.ndl.go.jp/books/R100000002-I000000159719-00
掲載誌名 Japanese journal of applied physics. Part. 1, Regular papers, brief communications & review papers : JJAP
掲載巻 39
掲載号 11
掲載通号 529
掲載ページ 6478~6486
言語(ISO639-2形式) eng : English

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